本项目主要生产瞬态抑制二极管 TVS5 寸晶圆，主要生产工艺为清洗、热氧化、扩散、光刻、刻蚀、化学镀镍（金）、电镀锡等，为半导体分立器件制造；企业拟在原来可控硅项目及厂房的基础上，将原来生产车间3楼的封装车间改建为TVS晶圆生产。企业拟购置 RCA 清洗机、砂轮划片机、四管扩散炉等设备，采用清洗、热氧化、扩散、光刻、刻蚀、化学镀镍（金）、电镀锡（依托现有生产线或外协）等工艺，项目达产后，将形成年产瞬态抑制二极管TVS5寸晶圆180万片（TVS成品107328万只）的生产能力。
会员可见完整内容
马上解锁查看
ICP备08001231号