建设性质:新建(租赁厂房);
建设地点:无锡市锡山区鹅湖镇通湖路 12 号;
半导体均匀器生产工艺流程:精密机床加工→测量编号→预脱脂清洗→喷砂→二次预清洗→电烘干→遮蔽→熔射→等离子喷涂→超声波清洗→电烘干→检验→组装、包装入库→成品。
半导体均匀器保养工艺流程:测量→酸碱清洗/浸泡擦拭/超高压水刀及干冰清洗→一次预清洗→二次预清洗→超声波清洗→电烘干→检验→组装、包装入库→成品。
总投资:10300 万元,其中环保投资 351 万元;
工作制度:年工作 300 天,两班制 16 小时(8:00-24:00)生产,年工作4800 小时;
职工人数:职工及管理人员共计 90 人;
废气
喷砂:设备配套布袋除尘装置 12 套
熔射:湿式除尘装置 1 套
等离子喷涂:湿式除尘装置 1 套
酸洗:两级碱喷淋塔 1 套
浸泡:两级活性炭吸附装置 1 套
固废
一般固废:一般固废堆场 12m2 固废分类堆放,无渗漏
危险固废:危险固废仓库 55m2 固废分类堆放,无渗漏
生活垃圾:带盖垃圾桶若干 。
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