对标国外涂胶显影设备头部厂商，拟采购其12寸浸润式涂胶显影机用于拆解、剖析进行逆向研发，购置膜厚及线宽检测等测试设备，应用于开发国产替代的12寸浸润式涂胶显影机。该项目旨在通过深度解析国外涂胶、显影先进技术，实现技术自主化，与国内光刻机研发头部企业同步，实现涂胶、光刻、显影In-Line，提升我国在半导体制造设备领域的核心竞争力。项目将重点突破浸润式涂胶显影机的关键技术，包括但不限于精密涂胶技术、显影液均匀分布技术、高精度定位与运动控制技术等。同时，还将建立完善的测试验证体系，确保所开发的设备能够满足国内半导体制造企业的工艺需求，为后续批量化生产与市场应用奠定坚实基础。
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ICP备08001231号