申请日2013.05.16
公开(公告)日2014.11.26
IPC分类号B08B7/04
摘要
本发明是一种X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，在对X荧光光谱仪分光室内表面的可视油污、水汽进行清理擦除后实施，其特征在于包括以下步骤：对分光室进行加温烘烤使残留的油污水分挥发出来;将分子筛置入分子筛储存盒并使分子筛储存盒进入分光室对挥发出来的油污水分进行吸附;进行X荧光光谱仪分光室负压脉冲气流吹扫油污、水汽;使各分光器轮流交替真空泄漏,通过脉冲负压吹扫气流进行清除;以及使通过脉冲负压吹扫气流吹走的油气、水汽排出，以完成分光室内污染的彻底清除。本发明方法清除光谱仪分光室内部油污水汽效率高、清除彻底，使分析测试数据稳定，运行可靠;操作方法掌握容易，使用中不会对分光系统造成损坏。
权利要求书
1.一种X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水 汽的清除方法，在对X荧光光 谱仪分光室内表面的可视油污、水汽进行清理擦除后实施，其特征在于包括以 下步骤：对分光室进行加温烘烤使残留的油污水分挥发出来;将分子筛置入分 子筛储存盒并使分子筛储存盒进入分光室对挥发出来的油污水分进行吸附;进 行X荧光光谱仪分光室负压脉冲气流吹扫油污、水汽;使各分光器轮流交替真 空泄漏,通过脉冲负压吹扫气流进行清除;以及使通过脉冲负压吹扫气流吹走 的油气、水汽排出，以完成分光室内污染的彻底清除。
2.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除 方法，其特征在于，对分光室进行加温烘烤是开启X射线并维持所要求功率的 热辐射和分光系统恒温加热。
3.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除 方法，其特征在于，所述分子筛储存盒包括上盖和容器主体，所述分子筛储存 盒的外形符合X荧光光谱仪样品系统尺寸，并且分子筛储存盒上下四周均有压 力释放孔。
4.根据权利要求3所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除 方法，其特征在于，在所述分子筛储存盒的上盖安装有小于分子筛颗粒目数的 金属网罩。
5.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除 方法，其特征在于，所述对挥发出来的油污水分进行吸附的步骤包括将装有分 子筛的储存盒通过样品搬送系统送入X荧光光谱仪样品室进行真空预抽，以及 待到真空度正常后打开分光室光闸，以使储存盒内的分子筛对分光室中残留的 油污蒸汽和水汽分子进行有效吸附。
6.根据权利要求6所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除 方法，其特征在于，储存盒内的分子筛对分光室中残留的油污蒸汽和水汽分子 进行吸附后再由原路退出，以此往复完成吸附作业。
7.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除 方法，其特征在于，在分光器的通道上加设有气流泄漏口并加装控制电磁阀， 电磁阀通过自封闭快速接头与分光器连接;电磁阀不通电时一直处于关闭状 态，使分光室保持真空度;进行X荧光光谱仪分光室负压脉冲气流吹扫油污、 水汽的步骤，是在维持着高真空度的负压状态下;当进行分光室污染清除时， 由脉冲信号发生器产生可调节的周期脉冲信号推动放大电路，产生脉冲电压并 驱动电磁阀以一定的周期频率开闭，以形成分光室的分光器真空泄漏，以对电 磁阀开通周期的调节控制形成脉冲气流，以形成负压脉冲气流通道，从而形成 负压脉冲吹扫气流。
8.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除 方法，其特征在于，通过脉冲负压吹扫气流吹走的油气、水汽是沿着真空管道 排出到真空泵外面，以完成分光室内污染的清除。
9.根据权利要求1至8之任一项所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污 水汽的清除方法，其特征在于，X荧光光谱仪真空分光室残留油污水汽的清除 方法的技术参数设置成：分光系统启动恒温加热功能，使分光室保持35±1℃; X射线功率维持在600W,保持分光室内的热辐射;使用纳X型分子筛进行吸附; 分光系统分光室内维持30±2Pa压力的真空泄漏量;电磁阀开闭动作频率为 0.2～1Hz。
说明书
X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法
技术领域
本发明涉及一种理化检测装置，具体说有关一种X荧光光谱仪的清洁方法。
背景技术
X荧光光谱仪担负着进厂原料如铁矿石和各类辅料的品位测试、冶炼所需 的烧结矿等炉料的成分分析、进行高炉铁水各化学元素的成分分析、各类成品 板材镀层厚度的测试，以及承担大量科研项目中试样的测试分析任务，因此X 荧光光谱仪是现代冶金企业重要的理化检测仪器设备。
X荧光光谱仪分光系统结构复杂内部形状不规则、涉及部件多，出现油污 水汽污染清理困难,作业效率低下针对性差，很难彻底清除，由于油污水汽残 留的存在严重影响了分析检测数据的准确性。在维护时虽然能对分光系统内表 面可视油污水汽进行常规清理，但在之后很长的一段时间内沉集在分光器犄角 旮旯无法解体清理的油污、水汽会逐渐挥发出来，污染样品造成分析检测数据 的异常，尤其是硫、磷、硅等元素化学含量分析受影响尤甚。分光系统油污清 理效率低、速度慢，且清洗效果不彻底。不可能对大型精密的X射线电子光学 系统进行分解清洗，由于缺少系统性和针对性的分光系统油污清理方法，不能 有效地指导X荧光光谱仪分光系统的点检维护作业，检修时间长、效果差造成 不必要的时间损失，造成分光室的二次污染，增加停机时间降低了仪器运行的 有效运行率。
分光室内的油污中硫、磷、硅等元素的含量较高，虽然经过常规清理，但 残留在分光室内的剩余油污在X射线热辐射的作用下，挥发出来并污染进入分 光室的待测样品，由于这些污染物的干扰使硫、磷、硅等轻元素含量测量不准， 如在未彻底进行分光室清理时，测量铁水样品误差极大。
X荧光光谱仪分光系统的X射线管由于老化或其质量缺陷会造成铍窗破裂， 引起高压绝缘油进入分光系统，使光谱仪分光室和真空管道内部污染;另外， 真空系统中的真空泵在长期运行后，其中的真空泵油也会对真空分光室造成扩 散污染。此时X荧光光谱仪就无法正常使用，因此需要对所述的污染进行清除。 X射线管的最大输出功率受阳极元素熔点和导热度的限制，阳极产生的热量要 用流动的水进行冷却。由于冷却水管的劣化破裂等因素，水汽不可避免进入真 空分光室而引起污染。为了防止上述故障引起X荧光光谱仪分光系统的污染， 就需要对分光室内表面的油污、水汽进行常规清理擦除后，还需在保证设备的 完整性不进行解体的情况下，对分光室内表面残余的油污和水汽高效快速地予 以清除。
在发明名称为“真空管道清洁装置及系统”的中国专利申请公开第 CN201020210793.7号介绍了一种真空管道清洁装置及系统，其中真空管道清洁 装置包括：至少二个清洁杆、至少一个毛刷头以及牵引装置;所述清洁杆之间 以配合结构活动连接并构成清洁杆组;所述毛刷头设置在至少一个清洁杆上; 所述牵引装置设置在所述清洁杆组的两端。适用于清洁弯曲连接处较多的真空 管道，用牵引装置来回拉动清洁杆来清理真空管道。该专利申请涉及机械硬件 管道清洁装置，并不涉及X荧光光谱仪分光室内残留油污水汽的清除。
在发明名称为“真空管线清洁分离系统”的中国专利申请公开第 CN200780037472.2号介绍了一种真空管线清洁分离系统，其用于从真空排除物 中除去液体物质和碎屑以及提供不含污染物的真空返回,利用真空排出管线与 输入真空物流诱发的循环旋转的气旋分离液体和碎屑，使液体和碎屑落到底部 排出到收集室，而清洁的真空流引向清洁的真空出口孔。该专利申请涉及真空 管线清洁分离系统，也并不涉及X荧光光谱仪分光室内残留油污水汽的清除。
发明内容
本发明的目的是提供一种X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除 方法，可高效快速地彻底清除X荧光光谱仪真空分光室内表面残余的油污和水 汽，以避免引起X荧光光谱仪分光系统的污染。
本发明的一种X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，在对X 荧光光谱仪分光室内表面的可视油污、水汽进行清理擦除后实施，其特征在于 包括以下步骤：对分光室进行加温烘烤使残留的油污水分挥发出来;将分子筛 置入分子筛储存盒并使分子筛储存盒进入分光室对挥发出来的油污水分进行 吸附;进行X荧光光谱仪分光室负压脉冲气流吹扫油污、水汽;使各分光器轮 流交替真空泄漏,通过脉冲负压吹扫气流进行清除;以及使通过脉冲负压吹扫 气流吹走的油气、水汽排出，以完成分光室内污染的彻底清除。
其中，对分光室进行加温烘烤是开启X射线并维持一定功率的热辐射和分 光系统恒温加热。
其中，所述分子筛储存盒包括上盖和容器主体，所述分子筛储存盒的外形 符合X荧光光谱仪样品系统尺寸，并且分子筛储存盒上下四周均有压力释放孔。
其中，在所述分子筛储存盒的上盖安装有小于分子筛颗粒目数的金属网 罩。
其中，所述对挥发出来的油污水分进行吸附的步骤包括将装有分子筛的储 存盒通过样品搬送系统送入X荧光光谱仪样品室进行真空预抽，以及待到真空 度正常后打开分光室光闸，以使储存盒内的分子筛对分光室中残留的油污蒸汽 和水汽分子进行有效吸附。
其中，储存盒内的分子筛对分光室中残留的油污蒸汽和水汽分子进行吸附 后再由原路退出，以此往复完成吸附作业。
其中，在分光器的通道上加设有气流泄漏口并加装控制电磁阀，电磁阀通 过自封闭快速接头与分光器连接;电磁阀不通电时一直处于关闭状态，使分光 室保持真空度;进行X荧光光谱仪分光室负压脉冲气流吹扫油污、水汽的步骤， 是在维持着高真空度的负压状态下;当进行分光室污染清除时，由脉冲信号发 生器产生可调节的周期脉冲信号推动放大电路，产生脉冲电压并驱动电磁阀以 一定的周期频率开闭，以形成分光室的分光器真空泄漏，以对电磁阀开通周期 的调节控制形成脉冲气流，以形成负压脉冲气流通道，从而形成负压脉冲吹扫 气流。
其中，通过脉冲负压吹扫气流吹走的油气、水汽是沿着真空管道排出到真 空泵外面，以完成分光室内污染的清除。
其中X荧光光谱仪真空分光室残留油污水汽的清除方法的技术参数设置 成：分光系统启动恒温加热功能，使分光室保持35±1℃;X射线功率维持在600W, 保持分光室内的热辐射;使用纳X型分子筛进行吸附;分光系统分光室内维持 30±2Pa压力的真空泄漏量;电磁阀开闭动作频率为0.2～1Hz。
本发明的有益效果是：本发明方法清除光谱仪分光室内部油污水汽效率 高、清除彻底，运用本方法不必对光谱仪分光室的拆卸分解和重新安装，作业 时间缩短效率高，尤其避免了重新安装分光室、分光通道带来的电子光学系统 的精密调整，这种调整工作多为设备制造厂的工程师在专业设备支持下方能进 行。本发明方法可适用于不同型号的X荧光光谱仪，适用范围广;操作方法掌 握容易、上手快，使用中不会对分光系统造成损坏，油污水汽彻底清除后X荧 光光谱仪硫、磷、硅等元素分析测试数据稳定，运行可靠。
