项目新建芯片厂房一、芯片厂房二、原材料仓库、成品仓库、动力中心、电站区、食宿中心、办公中心、研发数据中心等建筑,共计建筑面积 167614.13平方米(地上163061.55 平方米,地下 4552.58平方米)。新购置制绒清洗设备、PECVD成套设备、PVD 设备、丝网印刷机、串焊机、层压机等生产及辅助设备346台/套,其中异质结电池生产辅助设备255台/套,高效太阳能组件生产辅助设备91台/套。
废气:
①预清洗、制绒清洗过程产生的酸性废气经采用密闭设备,废气经管道收集至碱喷淋塔处理后,达到《电池工业污染物排放标准》(GB30484-2013)中表5中的排放限值后排放。
②镀膜废气:镀膜工序产生的镀膜废气经 POU 燃烧+喷淋水洗+碱洗处理后排放,满足《电池工业污染物排放标准》(GB 30484-2013)中表5中的排放限值。
③丝网印刷工序产生的有机废气经"集气罩+二级活性炭吸附装置”处理后排放,达到《电池工业污染物排放标准》(GB 30484-2013)中表5中的排放限值后高空排放。
④吸杂废气:吸杂工序产生的氯气收集后经“水洗+碱洗”处理后经排放,达到《电池工业污染物排放标准》(GB 30484-2013)中表5中的排放限值后高空排放。组件生产线:焊接废气、层压废气、涂胶固化工序产生的有机废气、擦拭废气等分别收集后经一套“布袋除尘+二级活性炭处理+水洗”处理后达标排放。
污水处理站:污水处理站产生的废气经"碱液水喷淋塔*处理后达标排放。
废水:
本项目含酸碱漂洗废水和含氟漂洗废水经过预处理措施处理后过滤清水回用生产,浓水汇同浓酸废水、浓碱废水、喷淋废水一起通过两级“反应+混凝+沉淀”池处理后再进行中和后排入园区污水处理厂。
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