重庆中国电子科技集团公司第四十四研究所光学薄膜刻蚀机-招标公告

中华人民共和国 招标公告 1. 招标条件 本招标项目光学薄膜刻蚀机招标人为中国电子科技集团公司第四十四研究所，招标项目资金来自国拨资金，出资比例为100%。该项目已具备招标条件，现对光学薄膜刻蚀机进行国内公开招标。
2. 项目概况与招标范围 2.1 招标编号：ZKX20230424A007
2.2 招标项目名称：光学薄膜刻蚀机。
2.3 数量：1台。
2.4 主要功能要求：光学薄膜刻蚀机用于图像传感器非光敏元区域的光学薄膜及金属刻蚀。光学薄膜刻蚀机需采用多工艺腔室设计，即一个工艺平台挂不同刻蚀腔体—金属ICP刻蚀腔（TiO2、Hf2O5、Al2O3、TiN等光学薄膜材料及Al刻蚀）和Strip腔（刻蚀后干法去胶）。
2.5 交货地点：中国电子科技集团公司第四十四研究所所区。
2.6 交货期：合同生效后150天。