申请日2014.09.03
公开(公告)日2017.05.10
IPC分类号B01D65/10; B01D65/06; C02F1/44
摘要
本发明提供一种水处理装置的附着物监控装置、水处理装置及其运行方法以及水处理装置的清洗方法。本发明的水处理装置的附着物监控装置具备：非透过水管路(L11)，从分离膜装置排出浓缩溶解成分和分散成分而成的非透过水(15)，所述分离膜装置从被处理水(11)通过分离膜浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水;第1附着物检测部(24A)，设置于从非透过水管路(L11)分支的非透过水分支管路(L12)，且具有第1检测用分离膜(21A)，所述第1检测用分离膜(21A)将分支的非透过水的一部分作为检测液(15a)并将该检测液(15a)分离为检测用透过水(22)和检测用非透过水(23);附着条件变更装置，变更附着于第1检测用分离膜(21A)的附着物的附着条件;及第1检测用分离液流量测量装置，测量在第1检测用分离膜(21A)中分离的检测用透过水(22)或检测用非透过水(23)的任一者或两者的流量。
权利要求书
1.一种水处理装置的附着物监控装置，其特征在于，具备：
非透过水管路，从分离膜装置排出浓缩溶解成分和分散成分而成的非透过水，所述分离膜装置从被处理水通过分离膜浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水;
第1附着物检测部，设置于从所述非透过水管路分支的非透过水分支管路，且具有第1检测用分离膜，所述第1检测用分离膜将所述分支的非透过水的一部分作为检测液并将该检测液分离为检测用透过水和检测用非透过水;
附着条件变更装置，变更附着于所述第1检测用分离膜的附着物的附着条件;及
第1检测用分离液流量测量装置，测量在所述第1检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水的任一者或两者的流量。
2.一种水处理装置的附着物监控装置，其特征在于，具备：
被处理水供给管路，向分离膜装置供给被处理水，所述分离膜装置通过分离膜浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水;
第2附着物检测部，设置于从所述被处理水供给管路分支的分支管路，且具有第2检测用分离膜，所述第2检测用分离膜将所述分支的被处理水的一部分作为检测液并将该检测液分离为检测用透过水和检测用非透过水;
附着条件变更装置，变更附着于所述第2检测用分离膜的附着物的附着条件;及
第2检测用分离液流量测量装置，测量在所述第2检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水的任一者或两者的流量。
3.根据权利要求1或2所述的水处理装置的附着物监控装置，其特征在于，
所述附着条件变更装置为改变分支的所述检测液的供给压力的压力调整装置。
4.根据权利要求1或2所述的水处理装置的附着物监控装置，其特征在于，
所述附着条件变更装置为改变分支的所述检测液的供给流量的流量调整装置。
5.一种水处理装置，其特征在于，具备：
分离膜装置，具有从被处理水浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水的分离膜;
非透过水管路，从所述分离膜装置排出浓缩溶解成分和分散成分而成的非透过水;
第1附着物检测部，设置于从所述非透过水管路分支的非透过水分支管路，且具有第1检测用分离膜，所述第1检测用分离膜将所述分支的非透过水的一部分作为检测液并将该检测液分离为检测用透过水和检测用非透过水;
附着条件变更装置，变更附着于所述第1检测用分离膜的附着物的附着条件;
第1检测用分离液流量测量装置，测量在所述第1检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水的任一者或两者的流量;及
控制装置，根据所述第1检测用分离液流量测量装置的测量结果，进行以下控制中的任一者或两者，即执行所述分离膜装置的所述分离膜的清洗处理或变更为不使附着物附着于所述分离膜装置的所述分离膜的运行条件。
6.一种水处理装置，其特征在于，具备：
分离膜装置，具有从被处理水浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水的分离膜;
被处理水供给管路，向所述分离膜装置供给所述被处理水;
第2附着物检测部，设置于从所述被处理水供给管路分支的被处理水分支管路，且具有第2检测用分离膜，所述第2检测用分离膜将所述分支的被处理水的一部分作为检测液并将该检测液分离为检测用透过水和检测用非透过水;
附着条件变更装置，变更附着于所述第2检测用分离膜的附着物的附着条件;
第2检测用分离液流量测量装置，测量在所述第2检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水的任一者或两者的流量;及
控制装置，根据所述第2检测用分离液流量测量装置的测量结果，进行以下控制中的任一者或两者，即执行所述分离膜装置的所述分离膜的清洗处理或变更为不使附着物附着于所述分离膜装置的所述分离膜的运行条件。
7.一种水处理装置，其特征在于，具备：
分离膜装置，具有从被处理水浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水的分离膜;
非透过水管路，从所述分离膜装置排出浓缩溶解成分和分散成分而成的非透过水;
第1附着物检测部，设置于从所述非透过水管路分支的非透过水分支管路，且具有第1检测用分离膜，所述第1检测用分离膜将所述分支的非透过水的一部分作为检测液并将该检测液分离为检测用透过水和检测用非透过水;
附着条件变更装置，变更附着于所述第1检测用分离膜的附着物的附着条件;
第1检测用分离液流量测量装置，测量在所述第1检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水的任一者或两者的流量;
被处理水供给管路，向所述分离膜装置供给所述被处理水;
第2附着物检测部，设置于从所述被处理水供给管路分支的被处理水分支管路，且具有第2检测用分离膜，所述第2检测用分离膜将所述分支的被处理水的一部分作为检测液并将该检测液分离为检测用透过水和检测用非透过水;
附着条件变更装置，变更附着于所述第2检测用分离膜的附着物的附着条件;
第2检测用分离液流量测量装置，测量在所述第2检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水的任一者或两者的流量;及
控制装置，根据所述第1检测用分离液流量测量装置或第2检测用分离液流量测量装置的测量结果，进行以下控制中的任一者或两者，即执行所述分离膜装置的所述分离膜的清洗处理或变更为不使附着物附着于所述分离膜装置的所述分离膜的运行条件。
8.根据权利要求5至7中任一项所述的水处理装置，其特征在于，
具备使来自所述分离膜装置的所述非透过水的水分蒸发的蒸发器。
9.一种水处理装置的运行方法，其特征在于，
所述水处理装置的运行方法利用权利要求1所述的水处理装置的附着物监控装置，
通过第1检测用分离液流量测量装置测量在所述第1检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水时，
在变更附着于所述第1检测用分离膜的附着物的附着条件且在所述检测用透过水或检测用非透过水的流量相较于规定量发生变化的情况下，
进行以下控制中的任一者或两者，即执行所述分离膜装置的所述分离膜的清洗处理或变更为不使附着物附着于所述分离膜装置的所述分离膜的运行条件。
10.根据权利要求9所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，
所述附着物的附着条件的变更是变更分支的所述非透过水的供给压力的情况，供给压力为规定阈值以下。
11.根据权利要求9所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，
所述附着物的附着条件的变更是变更分支的所述非透过水的供给流量的情况，供给流量为规定阈值以上。
12.一种水处理装置的运行方法，其特征在于，
所述水处理装置的运行方法利用权利要求2所述的水处理装置的附着物监控装置，
通过第2检测用分离液流量测量装置测量在所述第2检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水时，
在变更附着于所述第2检测用分离膜的附着物的附着条件且在所述检测用透过水或检测用非透过水的流量相较于规定量发生变化的情况下，
进行以下控制中的任一者或两者，即执行所述分离膜装置的所述分离膜的清洗处理或变更为不使附着物附着于所述分离膜装置的所述分离膜的运行条件。
13.根据权利要求12所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，
所述附着物的附着条件的变更是变更分支的所述被处理水的供给压力的情况，供给压力为规定阈值以下。
14.根据权利要求12所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，
所述附着物的附着条件的变更是变更分支的所述被处理水的供给流量的情况，供给流量为规定阈值以上。
15.一种水处理装置的运行方法，其特征在于，
所述水处理装置的运行方法利用权利要求1所述的水处理装置的附着物监控装置，
通过第1检测用分离液流量测量装置测量在所述第1检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水时，
在变更附着于所述第1检测用分离膜的附着物的附着条件且在所述检测用透过水或检测用非透过水的流量维持规定量的情况下，
变更所述分离膜装置的运行条件。
16.根据权利要求15所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，
所述附着物的附着条件是变更分支的所述非透过水的供给压力的情况，供给压力为规定阈值以上。
17.根据权利要求15所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，
所述附着物的附着条件是变更分支的所述非透过水的供给流量的情况，
所述供给流量为规定阈值以下。
18.一种水处理装置的运行方法，其特征在于，
所述水处理装置的运行方法利用权利要求2所述的水处理装置的附着物监控装置，
通过第2检测用分离液流量测量装置测量在所述第2检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水时，
在变更附着于所述第2检测用分离膜的附着物的附着条件且在所述检测用透过水或检测用非透过水的流量维持规定量的情况下，
变更所述分离膜装置的运行条件。
19.根据权利要求18所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，
所述附着物的附着条件是变更分支的所述被处理水的供给压力的情况，供给压力为规定阈值以上。
20.根据权利要求18所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，
所述附着物的附着条件是变更分支的所述被处理水的供给流量的情况，
所述供给流量为规定阈值以下。
21.一种水处理装置的清洗方法，其特征在于，
所述水处理装置的清洗方法利用权利要求1所述的水处理装置的附着物监控装置，
通过所述第1检测用分离液流量测量装置测量在所述第1检测用分离膜中分离的所述检测用透过水或所述检测用非透过水时，
选定所述检测用透过水或所述检测用非透过水的流量相较于规定量发生变化时的与附着于所述第1附着物检测部的所述第1检测用分离膜的附着物对应的清洗液，并向所述分离膜装置供给选定的清洗液。
22.一种水处理装置的清洗方法，其特征在于，
所述水处理装置的清洗方法利用权利要求2所述的水处理装置的附着物监控装置，
通过所述第2检测用分离液流量测量装置测量在所述第2检测用分离膜中分离的所述检测用透过水或所述检测用非透过水时，
选定所述检测用透过水或所述检测用非透过水的流量相较于规定量发生变化时的与附着于所述第2附着物检测部的所述第2检测用分离膜的附着物对应的清洗液，并向所述分离膜装置供给选定的清洗液。
23.根据权利要求9或12所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，
使来自所述分离膜装置的所述非透过水的水分蒸发。
说明书
水处理装置的附着物监控装置、水处理装置及其运行方法以及水处理装置的清洗方法
技术领域
本发明涉及一种水处理装置的附着物监控装置、水处理装置及其运行方法以及水处理装置的清洗方法。
背景技术
例如矿山废水中含有黄铁矿(FeS2)，该黄铁矿被氧化而生成SO42-。为了中和矿山废水而使用廉价Ca(OH)2。因此，矿山废水中丰富地含有Ca2+及SO42-。
并且，已知咸水、污水及工业废水中也丰富地含有Ca2+及SO42-。并且，在冷却塔中，在从锅炉等排出的高温的排气与冷却水之间进行热交换。通过该热交换，冷却水的一部分成为蒸气，因此冷却水中的离子被浓缩。因此，从冷却塔排出的冷却水(排污水)的Ca2-及SO42-等的离子浓度处于较高的状态。
大量含有这些离子的水被施予脱盐处理。作为实施脱盐处理的浓缩装置，例如已知有反渗透膜装置、纳滤膜装置及离子交换膜装置等。
然而，在利用这些装置进行脱盐处理时存在如下问题，即在高浓度的阳离子(例如钙离子(Ca2+))和阴离子(例如硫酸离子(S042-))获取其淡水时，若这些离子在膜表面浓缩，则有时超过难溶性矿物盐即硫酸钙(石膏(CaSO4))的溶解限度而作为附着物析出于膜表面，从而淡水的渗透通量(通量)降低。
因此，以往提出有作为监控反渗透膜的方法，例如使用监控反渗透膜装置的反渗透膜的单元来进行肉眼判断，从而检测矿物盐的结晶生成(专利文献1)。
并且，提出有使来自淡水化装置的浓缩水的至少一部分透过监控用分离膜，并通过设置于该监控用分离膜的前后的测压计来监控浓缩水中所含有的附着物析出于监控用分离膜的膜表面(专利文献2)。根据该提出的内容，预先监控原水(海水)被浓缩而附着物析出于过滤膜的膜表面，从而有效地抑制附着物析出于淡水化装置的过滤膜的膜表面。
并且，专利文献2中提出有为了进一步促进附着物析出，向供给至监控用分离膜的浓缩水供给碱性药剂。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特表2009-524521号公报
专利文献2：日本专利申请2010-282469号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
然而，专利文献1所提出的监控方法中，由于判断监控用单元中有矿物盐的结晶的析出而反渗透膜也同样地析出有矿物盐，因此存在无法预先监控结晶析出的前兆的问题。
并且，专利文献2所提出的内容中，由于需要检测监控用单元的前后的差压，因此存在流路被附着物堵塞，只有在差压发生变化的程度的附着物析出之后才能进行判断的问题。并且，检测附着物时需要一定程度的大小，例如原水的淡水化装置的过滤膜程度的大小，存在监控装置规模变大的问题。
即，淡水化装置的反渗透膜例如存储1个螺旋膜的单位为1m的多个(例如5～8个)螺旋膜，从而构成1个过滤膜用容器，并连结数百个以上该容器来进行原水的过滤时，监控装置的小型化有助于淡水化设备的小型化，因此期望出现实现尽可能小型化的监控附着物的装置。
并且，在供给碱性药剂的情况下，虽然对于通过供给碱性药剂而变得容易析出的附着成分(例如碳酸钙、氢氧化镁等)有效，但对于不依赖于pH的成分(例如石膏(CaSO4)、氟化钙(CaF2)等)并没有效果，因此存在无法应用的问题。
本发明的课题在于鉴于上述问题提供一种能够通过小型装置预测附着物附着于反渗透膜装置的反渗透膜，而且还预测附着物附着于分离膜装置的分离膜的水处理装置的附着物监控装置、水处理装置及其运行方法以及水处理装置的清洗方法。
用于解决技术课题的手段
用于解决上述课题的本发明的第1发明的水处理装置的附着物监控装置的特征在于具备：非透过水管路，从分离膜装置排出浓缩溶解成分和分散成分而成的非透过水，所述分离膜装置从被处理水通过分离膜浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水;第1附着物检测部，设置于从所述非透过水管路分支的非透过水分支管路，且具有第1检测用分离膜，所述第1检测用分离膜将所述分支的非透过水的一部分作为检测液并将该检测液分离为检测用透过水和检测用非透过水;附着条件变更装置，变更附着于所述第1检测用分离膜的附着物的附着条件;及第1检测用分离液流量测量装置，测量在所述第1检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水的任一者或两者的流量。
第2发明的水处理装置的附着物监控装置的特征在于具备：被处理水供给管路，向分离膜装置供给被处理水，所述分离膜装置通过分离膜浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水;第2附着物检测部，设置于从所述被处理水供给管路分支的分支管路，且具有第2检测用分离膜，所述第2检测用分离膜将所述分支的被处理水的一部分作为检测液并将该检测液分离为检测用透过水和检测用非透过水;附着条件变更装置，变更附着于所述第2检测用分离膜的附着物的附着条件;及第2检测用分离液流量测量装置，测量在所述第2检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水的任一者或两者的流量。
第3发明为第1或2发明所述的水处理装置的附着物监控装置，其特征在于，所述附着条件变更装置为改变分支的所述检测液的供给压力的压力调整装置。
第4发明为第1或2发明所述的水处理装置的附着物监控装置，其特征在于，所述附着条件变更装置为改变分支的所述检测液的供给流量的流量调整装置。
第5发明的水处理装置的其特征在于具备：分离膜装置，具有从被处理水浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水的分离膜;非透过水管路，从所述分离膜装置排出浓缩溶解成分和分散成分而成的非透过水;第1附着物检测部，设置于从所述非透过水管路分支的非透过水分支管路，且具有第1检测用分离膜，所述第1检测用分离膜将所述分支的非透过水的一部分作为检测液并将该检测液分离为检测用透过水和检测用非透过水;附着条件变更装置，变更附着于所述第1检测用分离膜的附着物的附着条件;第1检测用分离液流量测量装置，测量在所述第1检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水的任一者或两者的流量;及控制装置，根据所述第1检测用分离液流量测量装置的测量结果，进行以下控制中的任一者或两者，即执行所述分离膜装置的所述分离膜的清洗处理或变更为不使附着物附着于所述分离膜装置的所述分离膜的运行条件。
第6发明的水处理装置的特征在于具备：分离膜装置，具有从被处理水浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水的分离膜;被处理水供给管路，向所述分离膜装置供给所述被处理水;第2附着物检测部，设置于从所述被处理水供给管路分支的被处理水分支管路，且具有第2检测用分离膜，所述第2检测用分离膜将所述分支的被处理水的一部分作为检测液并将该检测液分离为检测用透过水和检测用非透过水;附着条件变更装置，变更附着于所述第2检测用分离膜的附着物的附着条件;第2检测用分离液流量测量装置，测量在所述第2检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水的任一者或两者的流量;及控制装置，根据所述第2检测用分离液流量测量装置的测量结果，进行以下控制中的任一者或两者，即执行所述分离膜装置的所述分离膜的清洗处理或变更为不使附着物附着于所述分离膜装置的所述分离膜的运行条件。
第7发明的水处理装置的特征在于具备：分离膜装置，具有从被处理水浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水的分离膜;非透过水管路，从所述分离膜装置排出浓缩溶解成分和分散成分而成的非透过水;第1附着物检测部，设置于从所述非透过水管路分支的非透过水分支管路，且具有第1检测用分离膜，所述第1检测用分离膜将所述分支的非透过水的一部分作为检测液并将该检测液分离为检测用透过水和检测用非透过水;附着条件变更装置，变更附着于所述第1检测用分离膜的附着物的附着条件;第1检测用分离液流量测量装置，测量在所述第1检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水的任一者或两者的流量;被处理水供给管路，向所述分离膜装置供给所述被处理水;第2附着物检测部，设置于从所述被处理水供给管路分支的被处理水分支管路，且具有第2检测用分离膜，所述第2检测用分离膜将所述分支的被处理水的一部分作为检测液并将该检测液分离为检测用透过水和检测用非透过水;附着条件变更装置，变更附着于所述第2检测用分离膜的附着物的附着条件;第2检测用分离液流量测量装置，测量在所述第2检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水的任一者或两者的流量;及控制装置，根据所述第1检测用分离液流量测量装置或第2检测用分离液流量测量装置的测量结果，进行以下控制中的任一者或两者，即执行所述分离膜装置的所述分离膜的清洗处理或变更为不使附着物附着于所述分离膜装置的所述分离膜的运行条件。
第8发明为第5至7中任一发明所述的水处理装置，其特征在于，具备使来自所述分离膜装置的所述非透过水的水分蒸发的蒸发器。
第9发明的水处理装置的运行方法的其特征在于，所述水处理装置的运行方法利用第1发明的水处理装置的附着物监控装置;通过第1检测用分离液流量测量装置测量在所述第1检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水时，在变更附着于所述第1检测用分离膜的附着物的附着条件且在所述检测用透过水或检测用非透过水的流量相较于规定量发生变化的情况下，进行以下控制中的任一者或两者，即执行所述分离膜装置的所述分离膜的清洗处理或变更为不使附着物附着于所述分离膜装置的所述分离膜的运行条件。
第10发明为第9发明所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，所述附着物的附着条件的变更是变更分支的所述非透过水的供给压力的情况，供给压力为规定阈值以下。
第11发明为第9发明所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，所述附着物的附着条件的变更是变更分支的所述非透过水的供给流量的情况，供给流量为规定阈值以上。
第12发明的水处理装置的运行方法的特征在于，所述水处理装置的运行方法利用第2发明的水处理装置的附着物监控装置;通过第2检测用分离液流量测量装置测量在所述第2检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水时，在变更附着于所述第2检测用分离膜的附着物的附着条件且在所述检测用透过水或检测用非透过水的流量相较于规定量发生变化的情况下，进行以下控制中的任一者或两者，即执行所述分离膜装置的所述分离膜的清洗处理或变更为不使附着物附着于所述分离膜装置的所述分离膜的运行条件。
第13发明为第12发明所述的所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，所述附着物的附着条件的变更是变更分支的所述被处理水的供给压力的情况，供给压力为规定阈值以下。
第14发明为第12发明所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，所述附着物的附着条件的变更是变更分支的所述被处理水的供给流量的情况，供给流量为规定阈值以上。
第15发明的水处理装置的运行方法其特征在于，所述水处理装置的运行方法利用第1发明的水处理装置的附着物监控装置;通过第1检测用分离液流量测量装置测量在所述第1检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水时，在变更附着于所述第1检测用分离膜的附着物的附着条件且在所述检测用透过水或检测用非透过水的流量维持规定量的情况下，变更所述分离膜装置的运行条件。
第16发明为第15发明所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，所述附着物的附着条件是变更分支的所述非透过水的供给压力的情况，供给压力为规定阈值以上。
第17发明为第15发明所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，所述附着物的附着条件是变更分支的所述非透过水的供给流量的情况，所述供给流量为规定阈值以下。
第18发明的水处理装置的运行方法，其特征在于，所述水处理装置的运行方法利用第2发明的水处理装置的附着物监控装置;通过第2检测用分离液流量测量装置测量在所述第2检测用分离膜中分离的检测用透过水或检测用非透过水时，在变更附着于所述第2检测用分离膜的附着物的附着条件且在所述检测用透过水或检测用非透过水的流量维持规定量的情况下，变更所述分离膜装置的运行条件。
第19发明为第18发明所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，所述附着物的附着条件是变更分支的所述被处理水的供给压力的情况，供给压力为规定阈值以上。
第20发明为第18发明所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，所述附着物的附着条件是变更分支的所述被处理水的供给流量的情况，所述供给流量为规定阈值以下。
第21发明的水处理装置的清洗方法的特征在于，所述水处理装置的清洗方法利用第1发明的水处理装置的附着物监控装置;通过所述第1检测用分离液流量测量装置测量在所述第1检测用分离膜中分离的所述检测用透过水或所述检测用非透过水时，选定所述检测用透过水或所述检测用非透过水的流量相较于规定量发生变化时的与附着于所述第1附着物检测部的所述第1检测用分离膜的附着物对应的清洗液，并向所述分离膜装置供给选定的清洗液。
第22发明的水处理装置的清洗方法的特征在于，所述水处理装置的清洗方法利用第2水处理装置的附着物监控装置;通过所述第2检测用分离液流量测量装置测量在所述第2检测用分离膜中分离的所述检测用透过水或所述检测用非透过水时，选定所述检测用透过水或所述检测用非透过水的流量相较于规定量发生变化时的与附着于所述第2附着物检测部的所述第2检测用分离膜的附着物对应的清洗液，并向所述分离膜装置供给选定的清洗液。
第23发明为第9或第12发明所述的水处理装置的运行方法，其特征在于，使来自所述分离膜装置的所述非透过水的水分蒸发。
发明效果
根据本发明，通过使用水处理装置的附着物监控装置，在使用基于分离膜的分离膜装置来处理被处理水时，能够预先预测附着物附着于分离膜。
