公布日：2023.12.08
申请日：2023.09.11
分类号：C02F1/30(2023.01)I;C02F1/72(2023.01)I
摘要
本发明提出一种等离子体曝气污水深度处理装置，包括曝气处理池、曝气风机和等离子体发生器，曝气处理池通过曝气风机与等离子体发生器连接，等离子体发生器的下方安装有支撑壳体，且支撑壳体的内侧设有维修腔，维修腔的两端均在支撑壳体上安装有防护门，等离子体发生器的内侧设有绝缘装配框，且绝缘装配框设有若干组，若干组绝缘装配框的内侧均安装有等离子体发生组件，且绝缘装配框通过升降组件与等离子体发生器及支撑壳体连接，本发明依次或者是针对某组等离子体发生组件进行维护时，能够将其转移至维修腔内进行维护，不会影响到其他等离子体发生组件的工作状态，继而能够在维护的同时，进行污水的深度处理，确保了污水处理的效率。
权利要求书
1.一种等离子体曝气污水深度处理装置，包括曝气处理池(1)、曝气风机(2)和等离子体发生器(3)，其特征在于：所述曝气处理池(1)通过曝气风机(2)与等离子体发生器(3)连接，所述等离子体发生器(3)的下方安装有支撑壳体(4)，且支撑壳体(4)的内侧设有维修腔(5)，所述维修腔(5)的两端均在支撑壳体(4)上安装有防护门(6)，所述等离子体发生器(3)的内侧设有绝缘装配框(7)，且绝缘装配框(7)设有若干组，若干组所述绝缘装配框(7)的内侧均安装有等离子体发生组件，且绝缘装配框(7)通过升降组件与等离子体发生器(3)及支撑壳体(4)连接，所述绝缘装配框(7)的正下方在等离子体发生器(3)上设有开口(8)，且开口(8)与维修腔(5)连通，所述等离子体发生器(3)远离曝气风机(2)的一端开设有进气口(9)，且进气口(9)设有若干组。
2.根据权利要求1所述的一种等离子体曝气污水深度处理装置，其特征在于：所述等离子体发生组件包括外装配架(10)和内装配架(11)，所述内装配架(11)的外侧通过绝缘连接件(12)与外装配架(10)连接，且绝缘连接件(12)设有若干组，所述内装配架(11)的两侧均安装有锯齿状内电极(13)，且锯齿状内电极(13)设有若干组，若干组所述锯齿状内电极(13)的一侧均在外装配架(10)上安装有极板状外电极(14)。
3.根据权利要求2所述的一种等离子体曝气污水深度处理装置，其特征在于：所述绝缘装配框(7)的上端安装有第一连接板(15)，且绝缘装配框(7)的下端通过支架安装有第二连接板(16)，所述第一连接板(15)和第二连接板(16)均与升降组件连接，所述绝缘装配框(7)上开设有插槽(17)，且插槽(17)设有若干组，若干组所述插槽(17)的内侧均设有插条(18)，且插条(18)与外装配架(10)连接。
4.根据权利要求1所述的一种等离子体曝气污水深度处理装置，其特征在于：所述开口(8)的正下方在支撑壳体(4)上安装有垫板(19)，所述垫板(19)的两端均安装有接近开关(20)，所述接近开关(20)的输出端与升降组件电连接。
5.根据权利要求3所述的一种等离子体曝气污水深度处理装置，其特征在于：所述升降组件包括两组呈对称设置的螺纹丝杆(21)，所述螺纹丝杆(21)的两端分别通过轴承与等离子体发生器(3)和支撑壳体(4)连接，且螺纹丝杆(21)通过电机(22)驱动，所述螺纹丝杆(21)穿过第一连接板(15)和第二连接板(16)，并通过螺纹与第一连接板(15)和第二连接板(16)连接，所述支撑壳体(4)的内壁上安装有电机控制端(23)。
6.根据权利要求1所述的一种等离子体曝气污水深度处理装置，其特征在于：所述等离子体发生器(3)的内侧安装有气体导流口(24)，且气体导流口(24)的输出端通过管道与曝气风机(2)的输入端连接，所述等离子体发生器(3)的内侧还设有导气罩(25)，所述导气罩(25)均匀设有若干组，并通过支架与等离子体发生器(3)连接，若干组所述导气罩(25)分布在若干组绝缘装配框(7)之间。
7.根据权利要求1所述的一种等离子体曝气污水深度处理装置，其特征在于：所述曝气处理池(1)的内侧安装有曝气管(26)，且曝气管(26)的输入端通过管道与曝气风机(2)的输出端连接，所述曝气管(26)上安装有曝气喷嘴(27)，且曝气喷嘴(27)均匀设有若干组，所述曝气管(26)的上方设有固定轴(28)，且固定轴(28)的一端通过轴承与曝气处理池(1)连接，所述固定轴(28)设有若干组，且若干组固定轴(28)的外侧安装有搅动板(29)，所述搅动板(29)设有若干组。
8.根据权利要求3所述的一种等离子体曝气污水深度处理装置，其特征在于：所述开口(8)与第二连接板(16)之间设有密封层(30)，所述密封层(30)具有弹性，且密封层(30)靠近第二连接板(16)的一端呈弧形设置。
9.根据权利要求2所述的一种等离子体曝气污水深度处理装置，其特征在于：所述绝缘装配框(7)的下端安装有等离子体发生电源(31)，且等离子体发生电源(31)通过螺栓与绝缘装配框(7)连接，所述等离子体发生电源(31)与锯齿状内电极(13)以及极板状外电极(14)电连接。
发明内容
针对上述问题，本发明的目的在于提出一种等离子体曝气污水深度处理装置，该种等离子体曝气污水深度处理装置具有便于对等离子发生组件维护的优点，解决现有技术中存在的问题。
为实现本发明的目的，本发明通过以下技术方案实现：一种等离子体曝气污水深度处理装置，包括曝气处理池、曝气风机和等离子体发生器，所述曝气处理池通过曝气风机与等离子体发生器连接，所述等离子体发生器的下方安装有支撑壳体，且支撑壳体的内侧设有维修腔，所述维修腔的两端均在支撑壳体上安装有防护门，所述等离子体发生器的内侧设有绝缘装配框，且绝缘装配框设有若干组，若干组所述绝缘装配框的内侧均安装有等离子体发生组件，且绝缘装配框通过升降组件与等离子体发生器及支撑壳体连接，所述绝缘装配框的正下方在等离子体发生器上设有开口，且开口与维修腔连通，所述等离子体发生器远离曝气风机的一端开设有进气口，且进气口设有若干组。
进一步改进在于：所述等离子体发生组件包括外装配架和内装配架，所述内装配架的外侧通过绝缘连接件与外装配架连接，且绝缘连接件设有若干组，所述内装配架的两侧均安装有锯齿状内电极，且锯齿状内电极设有若干组，若干组所述锯齿状内电极的一侧均在外装配架上安装有极板状外电极。
进一步改进在于：所述绝缘装配框的上端安装有第一连接板，且绝缘装配框的下端通过支架安装有第二连接板，所述第一连接板和第二连接板均与升降组件连接，所述绝缘装配框上开设有插槽，且插槽设有若干组，若干组所述插槽的内侧均设有插条，且插条与外装配架连接。
进一步改进在于：所述开口的正下方在支撑壳体上安装有垫板，所述垫板的两端均安装有接近开关，所述接近开关的输出端与升降组件电连接。
进一步改进在于：所述升降组件包括两组呈对称设置的螺纹丝杆，所述螺纹丝杆的两端分别通过轴承与等离子体发生器和支撑壳体连接，且螺纹丝杆通过电机驱动，所述螺纹丝杆穿过第一连接板和第二连接板，并通过螺纹与第一连接板和第二连接板连接，所述支撑壳体的内壁上安装有电机控制端。
进一步改进在于：所述等离子体发生器的内侧安装有气体导流口，且气体导流口的输出端通过管道与曝气风机的输入端连接，所述等离子体发生器的内侧还设有导气罩，所述导气罩均匀设有若干组，并通过支架与等离子体发生器连接，若干组所述导气罩分布在若干组绝缘装配框之间。
进一步改进在于：所述曝气处理池的内侧安装有曝气管，且曝气管的输入端通过管道与曝气风机的输出端连接，所述曝气管上安装有曝气喷嘴，且曝气喷嘴均匀设有若干组，所述曝气管的上方设有固定轴，且固定轴的一端通过轴承与曝气处理池连接，所述固定轴设有若干组，且若干组固定轴的外侧安装有搅动板，所述搅动板设有若干组。
进一步改进在于：所述开口与第二连接板之间设有密封层，所述密封层具有弹性，且密封层靠近第二连接板的一端呈弧形设置。
进一步改进在于：所述绝缘装配框的下端安装有等离子体发生电源，且等离子体发生电源通过螺栓与绝缘装配框连接，所述等离子体发生电源与锯齿状内电极以及极板状外电极电连接。
本发明的有益效果为：该种等离子体曝气污水深度处理装置通过设置的支撑壳体，提供一个及时维护的空间，由此在依次或者是针对某组等离子体发生组件进行维护时，能够将其转移至维修腔内进行维护，同时不会影响到其他等离子体发生组件的工作状态，继而能够在维护的同时，进行污水的深度处理，确保了污水处理的效率，进一步的在插槽和插条的作用下，使外装配架采用了插入式的连接方式，便于拆卸的同时，方便安装，再通过设置的垫板与接近开关，能够使绝缘装配框达到既定位置后，自行停止电机的运转，提升操作的便利性。
（发明人：胡春明;张华;李治龙）
