重庆中国电子科技集团公司第二十四研究所二氧化硅淀积炉-公开招标公告

招标公告 1. 招标条件 本招标项目二氧化硅淀积炉招标人为中国电子科技集团公司第二十四研究所，招标项目资金来自国拨资金，出资比例为100%。该项目已具备招标条件，现对二氧化硅淀积炉进行国内公开招标。
2. 项目概况与招标范围 2.1 招标编号：ZKX20240429A045
2.2 招标项目名称：二氧化硅淀积炉。
2.3 数量：1台。
2.4 主要功能要求：本次购买的二氧化硅淀积炉常用于ONO结构中的SiO2介质层。其原理是在炉管内高温下（720℃-900℃），二氯硅烷(DCS)和笑气(N2O)进行反应生成SiO2薄膜。必须是8寸全新支持SMIF功能及EAP通讯的国产设备
2.5 交货地点：重庆市沙坪坝区西永大道23号。
2.6 交货期：合同生效后6个月。
3. 投标人资格要求 3.1投标人须为具有独立承担民事责任能力的在中华人民共和国境内注册的法人或其他组织，具备有效的营业执照或事业单位法人证书或其它营业登记证书。