申请日2017.06.29
公开(公告)日2017.11.07
IPC分类号C02F9/04
摘要
本申请涉及一种污水处理设备，所述的污水处理设备包括沿污水的水流方向依次设置的用于过滤大颗粒杂质的粗格栅装置、用于将所述的粗格栅装置处理后的污水输送至细格栅装置的第一水泵、用于过滤小颗粒杂质的细格栅装置、用于对污水进行曝气沉砂处理的曝气沉砂池、用于对污水进行氧化处理的氧化反应室、对污水进行进一步沉淀的二沉池、用于将所述的二沉池中的清水排出污水处理设备的第二水泵。本申请所述的一种污水处理设备，使用了二次沉淀的方式对污水进行处理，能够充分过滤掉污水中的杂质，使污水的处理更加彻底。
权利要求书
1.一种污水处理设备，其特征在于：所述的污水处理设备包括沿污水的水流方向依次设置的用于过滤大颗粒杂质的粗格栅装置、用于将所述的粗格栅装置处理后的污水输送至细格栅装置的第一水泵、用于过滤小颗粒杂质的细格栅装置、用于对污水进行曝气沉砂处理的曝气沉砂池、用于对污水进行氧化处理的氧化反应室、对污水进行进一步沉淀的二沉池、用于将所述的二沉池中的清水排出污水处理设备的第二水泵。
2.根据权利要求1所述的一种污水处理设备，其特征在于：所述的二沉池还包括用于将污泥排出的污泥排出口。
3.根据权利要求2所述的一种污水处理设备，其特征在于：所述的二沉池与所述的曝气沉砂池相连通，用于将所述的二沉池中的污水循环至所述的曝气沉砂池，进行循环处理。
4.根据权利要求3所述的一种污水处理设备，其特征在于：所述的污水处理设备还包括PH调节剂容器，所述的PH调节剂容器与所述的氧化反应室相连通，用于向所述的氧化反应室输送PH调节剂。
5.根据权利要求4所述的一种污水处理设备，其特征在于：所述的PH调节剂容器与所述的氧化反应室相连通的管道上设置有用于控制PH调节剂流量的阀门。
6.根据权利要求5所述的一种污水处理设备，其特征在于：所述的PH调节剂容器与所述的氧化反应室相连通的管道上还设置有用于测量PH调节剂流量的流量计。
7.根据权利要求6所述的一种污水处理设备，其特征在于：所述的污水处理设备还包括次氯酸钠溶液添加装置，所述的次氯酸钠溶液添加装置与所述的氧化反应室相连通。
8.根据权利要求7所述的一种污水处理设备，其特征在于：所述的次氯酸钠溶液添加装置与所述的氧化反应室之间的管道上还设置有用于将所述的次氯酸钠溶液输送至所述的氧化反应室的泵。
说明书
一种污水处理设备
技术领域
本发明涉及一种污水处理设备。
背景技术
目前，污水，通常指受一定污染的、来自生活和生产的排出水。污水主要有生活污水、工业废水和初期雨水。污水的主要污染物有病原体污染物、耗氧污染物、植物营养物和有毒污染物等。急需对污水进行处理。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明的目的是提供一种污水处理设备。
本申请涉及一种污水处理设备，所述的污水处理设备包括沿污水的水流方向依次设置的用于过滤大颗粒杂质的粗格栅装置、用于将所述的粗格栅装置处理后的污水输送至细格栅装置的第一水泵、用于过滤小颗粒杂质的细格栅装置、用于对污水进行曝气沉砂处理的曝气沉砂池、用于对污水进行氧化处理的氧化反应室、对污水进行进一步沉淀的二沉池、用于将所述的二沉池中的清水排出污水处理设备的第二水泵。
优选地，所述的二沉池还包括用于将污泥排出的污泥排出口。
优选地，所述的二沉池与所述的曝气沉砂池相连通，用于将所述的二沉池中的污水循环至所述的曝气沉砂池，进行循环处理。
优选地，所述的污水处理设备还包括PH调节剂容器，所述的PH调节剂容器与所述的氧化反应室相连通，用于向所述的氧化反应室输送PH调节剂。
优选地，所述的PH调节剂容器与所述的氧化反应室相连通的管道上设置有用于控制PH调节剂流量的阀门。
优选地，所述的PH调节剂容器与所述的氧化反应室相连通的管道上还设置有用于测量PH调节剂流量的流量计。
优选地，所述的污水处理设备还包括次氯酸钠溶液添加装置，所述的次氯酸钠溶液添加装置与所述的氧化反应室相连通。
优选地，所述的次氯酸钠溶液添加装置与所述的氧化反应室之间的管道上还设置有用于将所述的次氯酸钠溶液输送至所述的氧化反应室的泵。
借由上述方案，本发明至少具有以下优点：
本申请所述的一种污水处理系，使用了二次沉淀的方式对污水进行处理，能够充分过滤掉污水中的杂质，使污水的处理更加彻底。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
