申请日2014.01.13
公开(公告)日2014.09.03
IPC分类号G01N33/18; G01N1/20
摘要
本实用新型涉及一种废水取样装置以及废水监测系统，包括取样槽，传感器伸入至所述取样槽的废水中进行废水监测;所述废水取样装置还包括用于清洗所述传感器的清洗装置，所述清洗装置伸入至所述取样槽中并位于所述传感器的一侧。通过所述清洗装置对传感器进行清洗，有效地降低了传感器上污染物指标黏着，增加了数据监测的准确性，同时有效减少废水取样装置和监测仪表清洗周期。
权利要求书
1.一种废水取样装置，包括一取样槽，一传感器伸入至所述取样槽的废水中进行废水监测，其特征在于，所述废水取样装置还包括用于清洗所述传感器的清洗装置，所述清洗装置伸入至所述取样槽的废水中并位于所述传感器的一侧。
2.如权利要求1所述的废水取样装置，其特征在于，所述取样槽具有废水入口以及废水出口，所述废水入口和废水出口设置于所述取样槽相对的侧壁上。
3.如权利要求1所述的废水取样装置，其特征在于，所述清洗装置包括气洗管道、气洗控制阀门以及清洗喷头，所述气洗管道一端连接于一供气装置，另一端与所述清洗喷头连接，所述气洗控制阀门设置于所述气洗管道上。
4.如权利要求1所述的废水取样装置，其特征在于，所述清洗装置包括水洗管道、水洗控制阀门以及清洗喷头，所述水洗管道一端连接于一供水装置，另一端与所述清洗喷头连接，所述水洗控制阀门设置于所述水洗管道上。
5.如权利要求1所述的废水取样装置，其特征在于，所述清洗装置包括气洗管道、气洗控制阀门、水洗管道、水洗控制阀门、连接管道以及清洗喷头，所述气洗管道一端连接于一供气装置，所述气洗控制阀门设置于所述气洗管道上，所述水洗控制阀门设置于所述水洗管道上，所述水洗管道一端连接于一供水装置，所述气洗管道和水洗管道的另一端通过所述连接管道与所述清洗喷头连接。
6.如权利要求3或4或5所述的废水取样装置，其特征在于，所述清洗喷头为圆形，表面设置有若干孔洞。
7.如权利要求1所述的废水取样装置，其特征在于，所述废水取样装置还包括曝气装置，所述曝气装置伸入至所述取样槽的废水中。
8.如权利要求7所述的废水取样装置，其特征在于，所述曝气装置包括管壁上开有多个通孔的曝气管道、曝气连接管道和曝气控制阀门，所述曝气控制阀门设置于曝气连接管道上，所述曝气管道一端与曝气连接管道连接。
9.如权利要求8所述的废水取样装置，其特征在于，所述曝气连接管道竖直向下，并在距离所述取样槽的底部3～5cm处水平延伸，截止于距离废水出口 10～20cm位置，并封闭管口。
10.如权利要求9所述的废水取样装置，其特征在于，所述曝气管道上的通孔均匀分布。
11.如权利要求8所述的废水取样装置，其特征在于，所述废水取样装置还包括设置于所述取样槽中的挡流板和固定支架，所述挡流板位于所述曝气连接管道和清洗装置之间，所述传感器设置于所述固定支架上。
12.一种废水监测系统，包括一传感器，其特征在于，还包括如权利要求1所述的废水取样装置。
说明书
废水取样装置以及废水监测系统
技术领域
本实用新型涉及集成电路制造领域，特别涉及一种废水取样装置以及废水 监测系统。
背景技术
集成电路制造领域的工业废水主要含有两个来源：一是集成电路器件电镀 产生的电镀废水，包括电镀废液及电镀清洗废水，污染物指标主要体现在酸碱 和金属铜离子;二是集成电路器件电镀工序前处理和电镀工序废气处理，污染 物体现在酸碱和磷酸盐。这些污染必须经过投加化学反应药剂，与废水进行混 凝反应，将废水中的污染物从废水中分离出来，达到净化目的，最后进入到排 污管道。
一般的，采用废水监测系统进行废水监控，所述废水监测系统包括污染物 监测与记录部分以及废水取样装置。通常在排污管道排污口前加装废水取样装 置进行废水采样。污染物监测与记录部分负责废水排放污染物的采集与监测， 通常由传感器、污染物指标记录仪等组成，将传感器伸入到废水取样装置中的 废水内，用于监测废水的酸碱度(pH)、化学需氧量(COD，Chemical Oxygen Demand)、氮磷浓度、固体悬浮物浓度(SS，Suspended solid)等。
然而，由于工业废水水质较脏，在废水取样装置中容易形成分层沉淀，或 粘结到用于监测的传感器上，影响监测的持续性、稳定性与准确性。
发明内容
本实用新型的目的提供一种废水取样装置，以提高废水监测的持续性、稳 定性与准确性。
为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种废水取样装置，所述废水 取样装置包括一取样槽，一传感器伸入至所述取样槽的废水中进行废水监测， 其特征在于，所述废水取样装置还包括用于清洗所述传感器的清洗装置，所述 清洗装置伸入至所述取样槽的废水中并位于所述传感器的一侧。
可选的，所述取样槽具有废水入口以及废水出口，所述废水入口和废水出 口设置于所述取样槽相对的侧壁上。
可选的，所述清洗装置包括气洗管道、气洗控制阀门以及清洗喷头，所述 气洗管道一端连接于一供气装置，另一端与所述清洗喷头连接，所述气洗控制 阀门设置于所述气洗管道上。
可选的，所述清洗装置包括水洗管道、水洗控制阀门以及清洗喷头，所述 水洗管道一端连接于一供水装置，另一端与所述清洗喷头连接，所述水洗控制 阀门设置于所述水洗管道上。
可选的，所述清洗装置包括气洗管道、气洗控制阀门、水洗管道、水洗控 制阀门、连接管道以及清洗喷头，所述气洗管道一端连接于一供气装置，所述 气洗控制阀门设置于所述气洗管道上，所述气洗控制阀门设置于所述气洗管道 上，所述水洗控制阀门设置于所述水洗管道上，所述水洗管道一端连接于一供 水装置，所述气洗管道和水洗管道的另一端通过所述连接管道与所述清洗喷头 连接。
可选的，所述清洗喷头为圆形，表面设置有若干孔洞。
可选的，所述废水取样装置还包括曝气装置，所述曝气装置伸入至所述取 样槽的废水中。
可选的，所述曝气装置包括曝气管道、曝气连接管道和曝气控制阀门，所 述曝气控制阀门设置于曝气连接管道上。
可选的，所述曝气连接管道竖直向下，并在距离所述取样槽的底部3～5cm 处水平延伸，延伸至距离废水出口10～20cm位置。
可选的，所述废水取样装置还包括设置于所述取样槽中的挡流板和固定支 架，所述挡流板位于所述曝气连接管道和清洗装置之间，所述传感器设置于所 述固定支架上。
根据本实用新型的另一面，还提供一种废水监测系统，所述废水监测系统 包括传感器，还包括如上所述的废水取样装置。
与现有技术相比，本实用新型的废水取样装置加设了清洗装置，通过清洗 装置对传感器进行清洗，有效地降低了传感器上污染物黏着，增加了数据监测 的持续性、稳定性与准确性，同时有效减少废水取样装置和监测仪表清洗周 期。
进一步的，本实用新型的废水取样装置还加设曝气装置，使废水取样装置 内各处液体混合均匀，保证能够持续、稳定地监测数据。
另外，本实用新型的废水监测系统由于使用了废水取样装置，使得废水监 测能持续、稳定与准确地进行，并减少了废水取样装置和监测仪表的清洗周 期。
