申请日2011.08.29
公开(公告)日2012.02.08
IPC分类号C02F5/10; C02F5/14
摘要
本发明涉及一种阻垢锅炉水处理剂，按照重量百分比计算，其是由以下组分组成：多氨基多醚基亚甲基磷酸20-30wt%，丙烯酸/丙烯酸甲脂的共聚物20-30wt%，羟基亚乙基二膦酸3-18wt%，亚硫酸钾10-15wt%，乙二胺四乙酸2-8wt%，磷酸三钠10-15wt%，碳酸钠15-25wt%，和氢氧化钠3-7wt%。本发明锅炉水处理剂还能使锅炉水质硬度降低，减少并阻止水垢的形成，使用后锅炉水的含氧量在国家标准范围内，本发明锅炉水处理剂还具有除残硬和防垢作用。
权利要求书
1.一种阻垢锅炉水处理剂，其特征在于：按照重量分数计算其是由以下组分组成：
多氨基多醚基亚甲基磷酸20-30wt%，
丙烯酸/丙烯酸甲脂的共聚物20-30wt%，
羟基亚乙基二膦酸3-18wt%，
亚硫酸钾10-15wt%，
乙二胺四乙酸2-8wt%，
磷酸三钠10-15wt%，
碳酸钠15-25wt%，
和氢氧化钠3-7wt%。
2.根据权利要求1所述阻垢锅炉水处理剂，其特征在于：按照重量分数计算其是由以下组分组成:
多氨基多醚基亚甲基磷酸20wt%，
丙烯酸/丙烯酸甲脂的共聚物20wt%，
羟基亚乙基二膦酸9wt%，
亚硫酸钾11wt%，
乙二胺四乙酸6wt%，
磷酸三钠15wt%，
碳酸钠15wt%，
和氢氧化钠4wt%。
说明书
一种阻垢锅炉水处理剂
技术领域
本发明属于水质净化技术领域，尤其涉及一种用于锅炉除氧、阻垢、防垢的水处理药剂。
背景技术
锅炉设备是工业发展不可或缺的能量供给设备，其具有体积大，安装、更换不易的特点，因此需要定期的维护和清洗，以尽可能延缓其老化速度。但是锅炉在长期使用后，不可避免会出现结垢、锈。在锅炉构件中，溶解氧的腐蚀、水垢的产生会影响锅炉的使用寿命，降低传热效率，浪费能源。为了阻止溶解氧的腐蚀、水垢的产生，需要除去锅炉水中的溶解氧，降低水的硬度。
现有的技术中，经常使用化学处理和物理处理的方法除去溶解氧。在化学处理中，已经被广泛使用的氧气净化剂，如腆、轻胺基团或糖类等。使用轻胺基团进行化学处理时，轻胺会产生酸如硝酸，从而增加了对锅炉的腐蚀。而糖类的缺陷是难以测量其在锅炉水中的残基浓度，因而难以控制正确的加入量，并且，糖类遇到蒸汽会产生臭气。对于锅炉除垢和防垢通常采用纯碱法、钠离子交换法、电子防垢仪等方法，但上述方法除垢效果均不理想。
发明内容
本发明设计了一种阻垢锅炉水处理剂，其目的在于提供一种用于锅炉除氧、阻垢、防垢的水处理药剂。
为了实现上述目的，本发明采用了以下方案：
一种阻垢锅炉水处理剂，其特征在于：按照重量分数计算其是由以下组分组成：
多氨基多醚基亚甲基磷酸20-30wt%，
丙烯酸/丙烯酸甲脂的共聚物20-30wt%，
羟基亚乙基二膦酸3-18wt%，
亚硫酸钾10-15wt%，
乙二胺四乙酸2-8wt%，
磷酸三钠10-15wt%，
碳酸钠15-25wt%，
和氢氧化钠3-7wt%。
作为本发明的一个优选的实施例，按照重量分数计算其是由以下组分组成:
多氨基多醚基亚甲基磷酸20wt%，
丙烯酸/丙烯酸甲脂的共聚物20wt%，
羟基亚乙基二膦酸9wt%，
亚硫酸钾11wt%，
乙二胺四乙酸6wt%，
磷酸三钠15wt%，
碳酸钠15wt%，
和氢氧化钠4wt%。
本发明的阻垢锅炉水处理剂，其中亚硫酸钾具有较佳的除氧效果; 多氨基多醚基亚甲基磷酸、丙烯酸/丙烯酸甲脂的共聚物以及羟基亚乙基二膦酸混合后是良好的阻垢剂，乙二胺四乙酸具有很好的缓蚀功能;磷酸三钠可以在金属上形成钝化膜;碳酸钠和氢氧化钠起到调节pH值的作用。
该阻垢锅炉水处理剂具有以下有益效果：
(1)本发明阻垢锅炉水处理剂能够使锅炉水中溶解氧迅速除去，解决锅炉及管路、换热器的腐蚀问题。
(2)本发明阻垢锅炉水处理剂还能使锅炉水质硬度降低，减少并阻止水垢的形成，使用后锅炉水的含氧量在国家标准范围内。
(3)本发明阻垢锅炉水处理剂还具有除残硬和防垢作用。
具体实施方式
下面结合实施例，对本发明做进一步说明：
实施例1
按照重量分数计算其是由以下成分组成:购买市售的亚硫酸钾11wt%，多氨基多醚基亚甲基磷酸20wt%，丙烯酸/丙烯酸甲脂的共聚物20wt%，羟基亚乙基二膦酸9wt%，乙二胺四乙酸6wt%，磷酸三钠15wt%，碳酸钠15wt%，和氢氧化钠4wt%，粉碎后混合均匀，加入90%的水稀释并搅拌均匀后装桶制成药剂。
将上述添加剂用于某发电厂燃煤锅炉。 用药量考虑按锅炉水质，每吨水加药剂0.2-0.4公斤，按比例用泵把药液加入供水管，经过一个循环后测量水质，除氧率和防垢率分别达到90%和85%。
上面结合具体实施例对本发明进行了示例性的描述，显然本发明的实现并不受上述方式的限制，只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本发明的保护范围内。
