申请日2006.04.30
公开(公告)日2009.05.13
IPC分类号C02F9/00; C02F1/58; C02F1/52; C02F1/66
摘要
本发明公开了一种去除废水中氟离子的方法，依次包括下列步骤：a.往含有氟离子的工业废水中添加氢氧化钙溶液并进行搅拌，直到废水的pH值为8.5-9.5，反应时间为15-20分钟;b.往步骤a所得废水中添加硫酸铝溶液并进行搅拌，直到废水的pH值为6.0-6.5，反应时间为20-25分钟;c.向步骤b的废水中加入高分子絮凝剂并进行搅拌;再将步骤c所得废水注入沉淀池进行絮凝沉淀后，上清液排放，沉淀物进行固-液分离，所得泥渣外运或填埋;采用本发明设计的工艺只要以通常的PH计对所添加的药剂量的进行适时监控即可实现有效去除废水中所含的氟离子的目的，工序简化，所用药剂种类较少，便于操作，对于含氟离子的废水排量较高的工厂较为实用。
权利要求书
1.一种去除废水中氟离子的方法，依次包括下列步骤：
a.往含有氟离子的工业废水中添加氢氧化钙溶液并进行搅拌，直 到废水的pH值为8.5-9.5，反应时间为15-20分钟;
b.往步骤a所得废水中添加硫酸铝溶液并进行搅拌，直到废水的 pH值为6.0-6.5，反应时间为20-25分钟;
c.向步骤b的废水中加入高分子絮凝剂并进行搅拌;
d.将步骤c所得废水注入沉淀池进行絮凝沉淀后，上清液排放， 沉淀物进行固-液分离，所得泥渣外运或填埋。
2.如权利要求1所述的一种去除废水中氟离子的方法，其特征在于： 在所述步骤a中，添加氢氧化钙溶液直到废水的pH值为9.5。
3.如权利要求1或2所述的任一种去除废水中氟离子的方法，其特 征在于：在所述步骤b中，添加硫酸铝溶液直到废水的pH值为6.0.
说明书
一种去除废水中氟离子的方法
技术领域
本发明涉及一种去除工业废水中氟离子的方法。
背景技术
在液晶显示器、半导体生产工艺中经常会使用氢氟酸清洗基片玻 璃，以提高基片玻璃表面洁净度，在这些工艺中所产生的工业废水由 于含有较高浓度的氟离子，各地一般都对其排放作出严格规定，在我 国的国家标准中，就规定所排放的工业废水中氟离子的含量不允许超 过10mg/L，这是一个硬性的、最低的标准，显然，废水中氟离子含 量更低，将会更符合国家的产业政策，对环境的保护更为有利。
公开号为：CN1326900A，公开日为：2001年12月19日，申请 号为：01122878.4的中国发明专利申请公开说明书提出了一种较为 有效的处理含有氟离子废水的方法，其主要工艺步骤依次是：1.将碳 酸钙与盐酸反应的溶液加入到含有较高浓度氟离子的废水中去;2. 将碱性溶液如氢氧化钠加入废水中，以调节废水的PH值到8.0以上; 3.将聚偏磷酸钠和活性铝，如硫酸铝的混合物或其水溶液加入到步骤 2的废水中，直到废水中的PH值为6.0-7.0;4.向步骤3的废水中以 通常方式加入絮凝剂，在絮凝沉淀后进行固-液分离，所得泥渣回用 或填埋。经过前述工艺后，废水中的氟离子含量能够降低到10mg/L 以下。
前述处理工艺的主要缺陷是：需要根据废水量以及其中氟离子的 含量来决定、控制碳酸钙、盐酸、氢氧化钠、聚偏磷酸钠和活性铝等 物质的添加量，致使废水处理使用的化学药剂种类多，步骤繁复，操 作复杂。
发明内容
为克服上述现有技术的缺陷，本发明所要解决的技术问题是旨在 提供一种在操作简单，但仍然有较好的氟离子处理效果的去除废水中 氟离子的方法。
为解决上述技术问题，本发明提出一种去除废水中氟离子的方 法，依次包括下列步骤：
a.往含有氟离子的工业废水中添加氢氧化钙溶液并进行搅拌，直 到废水的pH值为8.5-9.5，反应时间为15-20分钟;
b.往步骤a所得废水中添加硫酸铝溶液并进行搅拌，直到废水的 pH值为6.0-6.5，反应时间为20-25分钟;
c.向步骤b的废水中加入高分子絮凝剂并进行搅拌;
d.将步骤c所得废水注入沉淀池进行絮凝沉淀后，上清液排放， 沉淀物进行固-液分离，所得泥渣外运或填埋。
采用上述工艺，含有氟离子的工业废水在添加氢氧化钙溶液后， 进行搅拌，再添加适量的硫酸铝溶液，生成较为稳定的、易沉淀的含 氟胶体，再通过高分子絮凝剂促使形成大颗粒的絮凝体，便于沉淀， 从而达到去除废水中所含的氟离子的目的。在具体操作本发明的工艺 流程时，只要以通常的PH计对所添加的药剂量的进行适时监控即可 实现有效去除废水中所含的氟离子的目的及效果，所使用的主要药剂 种类也只有氢氧化钙溶液和硫酸铝溶液两种，非常简单，尤其对于含 氟离子的废水排量较高的工厂更为实用。
