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污水处理中膜清洗技术

发布时间:2019-3-14 9:09:54  中国污水处理工程网

  申请日2017.12.28

  公开(公告)日2018.08.31

  IPC分类号B01D65/02

  摘要

  本实用新型公开了一种污水处理中膜清洗装置,包括控制单元,两组清洗水箱,分别与两个清洗水箱连接的两个清洗水泵,两个清洗水泵的输出端分成两路,一路回到清洗水箱,一路连接保安过滤器,保安过滤器输出连接清洗管路。本实用新型采用双清洗水箱设置,使其能加注不同的清洗液,回流口的设置,让清洗产生循环,通过清洗,保障了纳滤/反渗透装置的使用寿命,减轻了污堵,增加了产水量,提高了设备运行。

 


  权利要求书

  1.一种污水处理中膜清洗装置,包括控制单元,两组清洗水箱,分别与两个清洗水箱连接的两个清洗水泵,两个清洗水泵的输出端分成两路,一路回到清洗水箱,一路连接保安过滤器,保安过滤器输出连接清洗管路。

  2.根据权利要求1所述的污水处理中膜清洗装置,其特征在于:所述清洗水箱下部设置排水阀。

  3.根据权利要求1所述的污水处理中膜清洗装置,其特征在于:所述清洗水箱上设置两路进水口,分别连接纳滤/反渗透膜装置的浓水外排口和清洗回流口,在清洗回流口、浓水外排口与清洗水箱的连接管路上分别设置清洗回流阀和浓水排水阀,控制单元连接控制清洗回流阀和浓水排水阀。

  4.根据权利要求1所述的污水处理中膜清洗装置,其特征在于:两组所述清洗水箱通过管路和阀门连接。

  5.根据权利要求1所述的污水处理中膜清洗装置,其特征在于:所述清洗管路分为纳滤清洗管路和反渗透清洗管路。

  说明书

  一种污水处理中膜清洗装置

  技术领域

  本实用新型涉及一种污水 处理装置,尤其涉及一种污水处理中膜清洗装置。

  背景技术

  焦化废水是一种典型的有毒难降解有机废水,危害巨大,含有酚类化合物,含氮、硫、氧的杂环化合物,多环芳香族化合物,脂肪族化合物,等有机污染物。多环芳烃和杂环化合物难以降解,而且还是强致癌有机物。酚类化合物危害农作物生长,影响动物繁殖,还严重威胁人类健康。氨氮是水体中的营养素,是水体中的主要耗氧污染物,可导致水富营养化现象产生。

  目前国内对焦化废水主要采用活性污泥法和混凝沉淀法联合处理,在处理设施运行良好的情况下出水COD一般达到100~150mg/L,氨氮达到5~15mg/L,均能达到《污水综合排放标准》(GB8978—1996)二级排放标准。但随着新的《炼焦化学工业污染物排放标准》(GB16171—2012)实施,炼焦化学污水直接排放标准已于2015年进一步提高至COD80 mg/L、氨氮10mg/L,原有生化处理方式已经不能满足新标准的要求。另一方面,行业内普遍推广干熄焦工艺使得原来用于熄焦的焦化废水无处消纳。综合多方因素,众多焦化企业迫切需要一种可以实现焦化废水深度处理并回用的成熟稳定技术。特别是对于一些早期的焦化企业,规模小,污水量少,需要能有效避免土建投资和人力成本,为企业节约资金的设备。

  实用新型内容

  本实用新型目的在于解决现有技术中的上述问题,提供一种污水处理中膜清洗装置,用于清洗污水装置中的纳滤或反渗透膜。

  本实用新型为达到上述目的,所采用的技术手段是:一种污水处理中膜清洗装置,包括控制单元,两组清洗水箱,分别与两个清洗水箱连接的两个清洗水泵,两个清洗水泵的输出端分成两路,一路回到清洗水箱,一路连接保安过滤器,保安过滤器输出连接清洗管路。

  进一步的,所述清洗水箱下部设置排水阀。

  进一步的,所述清洗水箱上设置两路进水口,分别连接纳滤/反渗透膜装置的浓水外排口和清洗回流口,在清洗回流口、浓水外排口与清洗水箱的连接管路上分别设置清洗回流阀和浓水排水阀,控制单元连接控制清洗回流阀和浓水排水阀。

  进一步的,两组所述清洗水箱通过管路和阀门连接。

  进一步的,所述清洗管路分为纳滤清洗管路和反渗透清洗管路。

  本实用新型的工作原理是:设置两组清洗水箱,清洗水箱A、清洗水箱B,在每个清洗水箱上连接一个清洗水泵A、清洗水泵B,纳滤/反渗透膜长时间运行后,表面会受到污染,形成污堵,需要清洗恢复膜性能;我们设置两个清洗水箱,在其中加注不同的清洗液,酸性清洗液和碱性清洗液,通过清洗水泵A、B将清洗药液分段打入纳滤/反渗透膜装置中,开启清洗回流阀,循环冲刷,循环20~30分钟后,开始浸泡,浸泡时间视膜污堵情况确定,一般为60min~180min,结束后,将清洗水箱A、B排空,放入清水,开启清洗水泵A、B,正常进水,冲刷纳滤/反渗透膜装置,冲刷结束后,通过清洗水箱中的排水阀将废液排出。

  本实用新型有益效果在于:双清洗水箱设置,使其能加注不同的清洗液,回流口的设置,让清洗产生循环,通过清洗,保障了纳滤/反渗透装置的使用寿命,减轻了污堵,增加了产水量,提高了设备运行。

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