申请日2020.06.18
公开(公告)日2020.11.10
IPC分类号C02F9/14; C02F101/30
摘要
本发明涉及一种基于多效能医疗污水处理的脱氮除磷工艺，包括：机械格栅1、调节池2、第一鼓风机3、第一泵4、缺氧池5、接触氧化池6、第二泵7、第二鼓风机8、竖流沉淀池9、第三泵10、混凝反应池11、PFS罐12、PAM罐13、斜管沉淀池14、第四泵15、接触消毒池16、次氯酸钠罐17、污泥池18、栅渣收集袋19和中央处理器。本发明通过在系统中添加中央处理器，通过对指定水池中的水位进行检测并根据检测结果选取对应的鼓风机运行参数和对应加药罐的加药量，能够有效提高所述系统对污泥的控制。
权利要求书
1.一种基于多效能医疗污水处理的脱氮除磷工艺，其特征在于，包括：
机械格栅，其设于泵站污水进水渠处，用以对污水初步截流并去除污水中的漂浮物;
调节池，其与所述机械格栅相连，用以对调节池中的污水调配水量或调节水质;
第一鼓风机，其与所述调节池相连，用以向所述调节池输送空气以搅拌污水;
第一泵，其与所述调节池相连，用以调节池中的废水输送至缺氧池;
缺氧池，其与所述第一泵相连，在缺氧池内设有反硝化细菌，用以缺氧池内缺氧处理;
接触氧化池，其与所述缺氧池相连，在接触氧化池底部设有鼓风机，用以对接触氧化池提供氧源以使接触氧化池内的硝化细菌吸附和降解接触氧化池污水中的有机物;
第二泵，其分别与所述接触氧化池和所述缺氧池相连，用以将接触氧化池内部污水回流至缺氧池中;
第二鼓风机，其分别与所述缺氧池和接触氧化池相连，用以分别向接触氧化池和所述缺氧池输送空气以分别搅拌接触氧化池和缺氧池中的污水;
竖流沉淀池，其与所述接触氧化池相连，用以对竖流沉淀池内的污水进行泥水分离;
第三泵，其管线一端与所述竖流沉淀池相连，另一端分别与所述污泥池和所述缺氧池相连，用以将竖流沉淀池中的污泥分别输送到污泥池和缺氧池中;
混凝反应池，其与竖流沉淀池相连，用以将混凝反应池内的污水中的胶体和细微悬浮物凝聚成絮凝体;
斜管沉淀池，其与所述混凝反应池相连，用以沉淀混凝反应池中的絮凝物;
第四泵，其一端与所述斜管沉淀池出口相连，另一端与所述污泥池进口相连，用以将斜管沉淀池中的絮凝物输送至污泥池;
接触消毒池，其与斜管沉淀池相连，用以对接触消毒池内的污水进行消毒和漂白;
所述污泥池分别与所述第三泵和所述第四泵相连，用以存放第三泵和第四泵输出的污泥;
栅渣收集袋，其与所述机械格栅相连，用以存放污水经机械格栅截流和去除后的漂浮物
中央处理器，其分别与各所述鼓风机、所述混凝反应池中的加药罐和所述接触消毒池中的加药罐相连，用以根据对应水池内水位控制各鼓风机的运行参数以及加药罐的加药量以使系统对污水进行高效脱氮除磷;
在所述调节池、缺氧池、接触氧化池、混凝反应池和接触消毒池中均设有水位计，用以分别检测各所述水池中的水位。
2.根据权利要求1所述的基于多效能医疗污水处理的脱氮除磷工艺，其特征在于，所述中央处理器中设有第一预设水位矩阵组Ha(Ht0，Hq0，Hj0)，其中Ht0为调节池预设水位矩阵，Hq0为缺氧池预设水位矩阵，Hj0为接触氧化池预设水位矩阵;对于调节池预设水位矩阵Ht0，Ht0(Ht1，Ht2，Ht3，Ht4)，其中，Ht1为调节池第一预设水位，Ht2为调节池第二预设水位，Ht3为调节池第三预设水位，Ht4为调节池第四预设水位;对于缺氧池预设水位矩阵Hq0，Hq0(Hq1，Hq2，Hq3，Hq4)，其中，Hq1为缺氧池第一预设水位，Hq2为缺氧池第二预设水位，Hq3为缺氧池第三预设水位，Hq4为缺氧池第四预设水位;对于接触氧化池预设水位矩阵Hj0，Hj0(Hj1，Hj2，Hj3，Hj4)，其中，Hj1为接触氧化池第一预设水位，Hj2为接触氧化池第二预设水位，Hj3为接触氧化池第三预设水位，Hj4为接触氧化池第四预设水位;
所述中央处理器中还设有第一鼓风机预设运行矩阵组Fa和第二鼓风机预设运行矩阵组Fb;对于第一鼓风机预设运行矩阵组Fa，Fa(Fa1，Fa2，Fa3，Fa4)，其中，Fa1为第一鼓风机第一预设运行矩阵，Fa2为第一鼓风机第二预设运行矩阵，Fa3为第一鼓风机第三预设运行矩阵，Fa4为第一鼓风机第四预设运行矩阵;对于为第一鼓风机第i预设运行矩阵Fai，i=1，2，3，4，Fai(Pai，Tai)，其中Pai为第一鼓风机第i预设功率，Tai为第一鼓风机第i预设时长;对于第二鼓风机预设运行矩阵组Fb，Fb(Fb1，Fb2，Fb3，Fb4)，其中，Fb1为第二鼓风机第一预设运行矩阵，Fb2为第二鼓风机第二预设运行矩阵，Fb3为第二鼓风机第三预设运行矩阵，Fb4为第二鼓风机第四预设运行矩阵;对于为第二鼓风机第i预设运行矩阵Fai，Fai(Pai，Tai)，其中Pai为第二鼓风机第i预设功率，Tai为第二鼓风机第i预设时长;
当所述第一鼓风机对所述调节池输送空气时，调节池内的水位计会检测调节池水位Ht，检测完成后，中央处理器会Ht与Ht0矩阵中的各项参数进行对比：
当Ht≤Ht1时，中央处理器将第一鼓风机的运行功率调节为Pa1并将第一鼓风机的运行时长调节为Ta1;
当Ht1<ht≤ht2时，中央处理器将第一鼓风机的运行功率调节为pa2并将第一鼓风机的运行时长调节为ta2;< p="">
当Ht2<ht≤ht3时，中央处理器将第一鼓风机的运行功率调节为pa3并将第一鼓风机的运行时长调节为ta3;< p="">
当Ht3<ht≤ht4时，中央处理器将第一鼓风机的运行功率调节为pa4并将第一鼓风机的运行时长调节为ta4;< p="">
当所述第二鼓风机对所述缺氧池输送空气时，缺氧池内的水位计会检测缺氧池水位Hq，检测完成后，中央处理器会Hq与Hq0矩阵中的各项参数进行对比：
当Hq≤Hq1时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为Pb1并将第二鼓风机的运行时长调节为Tb1;
当Hq1<hq≤hq2时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为pb2并将第二鼓风机的运行时长调节为tb2;< p="">
当Hq2<hq≤hq3时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为pb3并将第二鼓风机的运行时长调节为tb3;< p="">
当Hq3<hq≤hq4时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为pb4并将第二鼓风机的运行时长调节为tb4;< p="">
当所述第二鼓风机对所述接触氧化池输送空气时，接触氧化池内的水位计会检测接触氧化池水位Hj，检测完成后，中央处理器会Hj与Hj0矩阵中的各项参数进行对比：
当Hj≤Hj1时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为Pb1并将第二鼓风机的运行时长调节为Tb1;
当Hj1<hj≤hj2时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为pb2并将第二鼓风机的运行时长调节为tb2;< p="">
当Hj2<hj≤hj3时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为pb3并将第二鼓风机的运行时长调节为tb3;< p="">
当Hj3<hj≤hj4时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为pb4并将第二鼓风机的运行时长调节为tb4。< p="">
3.根据权利要求1所述的基于多效能医疗污水处理的脱氮除磷工艺，其特征在于，所述混凝反应池包括：
PFS罐，其与所述混凝反应池相连，PFS罐内部装有PFS，用以絮凝和吸附混凝反应池中污水的溶质;
PAM罐，其与所述混凝反应池相连，PAM罐内部装有PAM，用以絮凝和吸附混凝反应池内污水的溶质。
4.根据权利要求3所述的基于多效能医疗污水处理的脱氮除磷工艺，其特征在于，所述接触消毒池内设有次氯酸钠罐，次氯酸钠罐内部装有次氯酸钠，用以对污水进行漂白和消毒。
5.根据权利要求4所述的基于多效能医疗污水处理的脱氮除磷工艺，其特征在于，所述中央处理器中还设有第二预设水位矩阵组Hb(Hh0，Hc0)，其中Hh0为混凝反应池预设水位矩阵，Hc0为接触消毒池预设水位矩阵;对于混凝反应池预设水位矩阵Hh0，Hh0(Hh1，Hh2，Hh3，Hh4)，其中，Hh1为混凝反应池第一预设水位，Hh2为混凝反应池第二预设水位，Hh3为混凝反应池第三预设水位，Hh4为混凝反应池第四预设水位;对于接触消毒池预设水位矩阵Hc0，Hc0(Hc1，Hc2，Hc3，Hc4)，其中，Hc1为接触消毒池第一预设水位，Hc2为接触消毒池第二预设水位，Hc3为接触消毒池第三预设水位，Hc4为接触消毒池第四预设水位;
所述中央处理器中还设有预设加药量矩阵组G0(Ga，Gb，Gc)，其中，Ga为PFS罐预设加药矩阵，Gb为PAM罐预设加药矩阵，Gc为次氯酸钠罐预设加药矩阵，对于PFS罐预设加药矩阵Ga，Ga(Ga1，Ga2，Ga3，Ga4)，其中，Ga1为PFS罐第一预设加药量，Ga2为PFS罐第二预设加药量，Ga3为PFS罐第三预设加药量，Ga4为PFS罐第四预设加药量;对于PAM罐预设加药矩阵Gb，Gb(Gb1，Gb2，Gb3，Gb4)，其中，Gb1为PAM罐第一预设加药量，Gb2为PAM罐第二预设加药量，Gb3为PAM罐第三预设加药量，Gb4为PAM罐第四预设加药量;对于次氯酸钠罐预设加药矩阵Gc(Gc1，Gc2，Gc3，Gc4)，其中，Gc1为次氯酸钠罐第一预设加药量，Gc2为次氯酸钠罐第二预设加药量，Gc3为次氯酸钠罐第三预设加药量，Gc4为次氯酸钠罐第四预设加药量;
当所述PFS罐向所述混凝反应池内添加PFS、所述PAM罐向混凝反应池内添加PAM时，混凝反应池内的水位计会检测池内水位Hh，检测完成后，中央处理器会将Hh与Hh0矩阵中的各项参数进行比对：
当Hh≤Hh1时，中央处理器将PFS罐的加药量调节为Ga1，将PAM罐的加药量调节为Gb1;
当Hh1<hh≤hh2时，中央处理器将pfs罐的加药量调节为ga2，将pam罐的加药量调节为gb2;< p="">
当Hh2<hh≤hh3时，中央处理器将pfs罐的加药量调节为ga3，将pam罐的加药量调节为gb3;< p="">
当Hh3<hh≤hh4时，中央处理器将pfs罐的加药量调节为ga4，将pam罐的加药量调节为gb4;< p="">
当所述次氯酸钠罐向所述接触消毒池添加次氯酸钠时，接触消毒池内的水位计会检测接触消毒池内水位Hc，检测完成后，中央处理器将Hc与Hc0矩阵中的各项参数进行对比：
当Hc≤Hc1时，中央处理器将次氯酸钠罐的加药量调节为Gc1;
当Hc1<hc≤hc2时，中央处理器将次氯酸钠罐的加药量调节为gc2;< p="">
当Hc2<hc≤hc3时，中央处理器将次氯酸钠罐的加药量调节为gc3;< p="">
当Hc3<hc≤hc4时，中央处理器将次氯酸钠罐的加药量调节为gc4。< p="">
6.根据权利要求1所述的基于多效能医疗污水处理的脱氮除磷工艺，其特征在于，所述缺氧池备有底部曝气装置，用以对缺氧池进行曝气。
7.根据权利要求1所述的基于多效能医疗污水处理的脱氮除磷工艺，其特征在于，所述接触氧化池内含有硝化菌，用以将污水中的氨氮转化为硝酸盐氮。
8.根据权利要求1所述的基于多效能医疗污水处理的脱氮除磷工艺，其特征在于，所述缺氧池内含有反硝化细菌，用以对述接触氧化池中回流的硝酸盐氮进行反硝化还原处理。
说明书
一种基于多效能医疗污水处理的脱氮除磷工艺
技术领域
本发明涉及医疗污水处理技术领域，尤其涉及一种基于多效能医疗污水处理的脱氮除磷工艺。
背景技术
近年来，国家对污水环保排放要求越来越严格，随着环保执法力度的加大，医疗污水最终排放既要求达到《医疗机构水污染物排放标准》(GB18466-2005)，同时也要达到《污水排入城市下水道水质标准》(CJ343-2010)，后者增加了出水总氮、总磷的达标要求。医疗污水总磷在4～15mg/L左右，出水要求达到8mg/L以下，扣除生化处理段微生物合成对磷的需求，最终出水总磷与排放要求接近。但现有医疗污水处理系统很少同时考虑到此两指标的达标问题。与此同时，在传统医疗污水处理系统上，生物接触氧化+沉淀(一级)，因生物接触氧化段脱落的生物膜裹挟有气泡，沉降困难，导致最终出水悬浮物不稳定，时有超标。尤其是生物接触氧化后接斜管沉淀池，因进入到沉淀段的污水中还有较高的溶解氧，运行一段时间后斜管填料上滋生微生物，影响沉淀效果。
对于传统的污水处理系统来说，现有技术存在出水悬浮物不稳定、不达标以及无法对污泥进行高效控制导致的技术问题。
发明内容
为此，本发明提供一种基于多效能医疗污水处理的脱氮除磷工艺，用以克服现有技术中出水悬浮物不稳定、不达标以及无法对污泥进行高效控制导致的技术问题。
为解决上述问题，本发明提供一种基于多效能医疗污水处理的脱氮除磷工艺，包括：
机械格栅，其设于泵站污水进水渠处，用以对污水初步截流并去除污水中的漂浮物;
调节池，其与所述机械格栅相连，用以对调节池中的污水调配水量或调节水质;
第一鼓风机，其与所述调节池相连，用以向所述调节池输送空气以搅拌污水;
第一泵，其与所述调节池相连，用以调节池中的废水输送至缺氧池;
缺氧池，其与所述第一泵相连，在缺氧池内设有反硝化细菌，用以缺氧池内缺氧处理;
接触氧化池，其与所述缺氧池相连，在接触氧化池底部设有鼓风机，用以对接触氧化池提供氧源以使接触氧化池内的硝化细菌吸附和降解接触氧化池污水中的有机物;
第二泵，其分别与所述接触氧化池和所述缺氧池相连，用以将接触氧化池内部污水回流至缺氧池中;
第二鼓风机，其分别与所述缺氧池和接触氧化池相连，用以分别向接触氧化池和所述缺氧池输送空气以分别搅拌接触氧化池和缺氧池中的污水;
竖流沉淀池，其与所述接触氧化池相连，用以对竖流沉淀池内的污水进行泥水分离;
第三泵，其管线一端与所述竖流沉淀池相连，另一端分别与所述污泥池和所述缺氧池相连，用以将竖流沉淀池中的污泥分别输送到污泥池和缺氧池中;
混凝反应池，其与竖流沉淀池相连，用以将混凝反应池内的污水中的胶体和细微悬浮物凝聚成絮凝体;
斜管沉淀池，其与所述混凝反应池相连，用以沉淀混凝反应池中的絮凝物;
第四泵，其一端与所述斜管沉淀池出口相连，另一端与所述污泥池进口相连，用以将斜管沉淀池中的絮凝物输送至污泥池;
接触消毒池，其与斜管沉淀池相连，用以对接触消毒池内的污水进行消毒和漂白;
所述污泥池分别与所述第三泵和所述第四泵相连，用以存放第三泵和第四泵输出的污泥;
栅渣收集袋，其与所述机械格栅相连，用以存放污水经机械格栅截流和去除后的漂浮物
中央处理器，其分别与各所述鼓风机、所述混凝反应池中的加药罐和所述接触消毒池中的加药罐相连，用以根据对应水池内水位控制各鼓风机的运行参数以及加药罐的加药量以使系统对污水进行高效脱氮除磷;
在所述调节池、缺氧池、接触氧化池、混凝反应池和接触消毒池中均设有水位计，用以分别检测各所述水池中的水位。
进一步地，所述中央处理器中设有第一预设水位矩阵组Ha(Ht0，Hq0，Hj0)，其中Ht0为调节池预设水位矩阵，Hq0为缺氧池预设水位矩阵，Hj0为接触氧化池预设水位矩阵;对于调节池预设水位矩阵Ht0，Ht0(Ht1，Ht2，Ht3，Ht4)，其中，Ht1为调节池第一预设水位，Ht2为调节池第二预设水位，Ht3为调节池第三预设水位，Ht4为调节池第四预设水位;对于缺氧池预设水位矩阵Hq0，Hq0(Hq1，Hq2，Hq3，Hq4)，其中，Hq1为缺氧池第一预设水位，Hq2为缺氧池第二预设水位，Hq3为缺氧池第三预设水位，Hq4为缺氧池第四预设水位;对于接触氧化池预设水位矩阵Hj0，Hj0(Hj1，Hj2，Hj3，Hj4)，其中，Hj1为接触氧化池第一预设水位，Hj2为接触氧化池第二预设水位，Hj3为接触氧化池第三预设水位，Hj4为接触氧化池第四预设水位;
所述中央处理器中还设有第一鼓风机预设运行矩阵组Fa和第二鼓风机预设运行矩阵组Fb;对于第一鼓风机预设运行矩阵组Fa，Fa(Fa1，Fa2，Fa3，Fa4)，其中，Fa1为第一鼓风机第一预设运行矩阵，Fa2为第一鼓风机第二预设运行矩阵，Fa3为第一鼓风机第三预设运行矩阵，Fa4为第一鼓风机第四预设运行矩阵;对于为第一鼓风机第i预设运行矩阵Fai，i=1，2，3，4，Fai(Pai，Tai)，其中Pai为第一鼓风机第i预设功率，Tai为第一鼓风机第i预设时长;对于第二鼓风机预设运行矩阵组Fb，Fb(Fb1，Fb2，Fb3，Fb4)，其中，Fb1为第二鼓风机第一预设运行矩阵，Fb2为第二鼓风机第二预设运行矩阵，Fb3为第二鼓风机第三预设运行矩阵，Fb4为第二鼓风机第四预设运行矩阵;对于为第二鼓风机第i预设运行矩阵Fai，Fai(Pai，Tai)，其中Pai为第二鼓风机第i预设功率，Tai为第二鼓风机第i预设时长;
当所述第一鼓风机对所述调节池输送空气时，调节池内的水位计会检测调节池水位Ht，检测完成后，中央处理器会Ht与Ht0矩阵中的各项参数进行对比：
当Ht≤Ht1时，中央处理器将第一鼓风机的运行功率调节为Pa1并将第一鼓风机的运行时长调节为Ta1;
当Ht1<ht≤ht2时，中央处理器将第一鼓风机的运行功率调节为pa2并将第一鼓风机的运行时长调节为ta2;< p="">
当Ht2<ht≤ht3时，中央处理器将第一鼓风机的运行功率调节为pa3并将第一鼓风机的运行时长调节为ta3;< p="">
当Ht3<ht≤ht4时，中央处理器将第一鼓风机的运行功率调节为pa4并将第一鼓风机的运行时长调节为ta4;< p="">
当所述第二鼓风机对所述缺氧池输送空气时，缺氧池内的水位计会检测缺氧池水位Hq，检测完成后，中央处理器会Hq与Hq0矩阵中的各项参数进行对比：
当Hq≤Hq1时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为Pb1并将第二鼓风机的运行时长调节为Tb1;
当Hq1<hq≤hq2时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为pb2并将第二鼓风机的运行时长调节为tb2;< p="">
当Hq2<hq≤hq3时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为pb3并将第二鼓风机的运行时长调节为tb3;< p="">
当Hq3<hq≤hq4时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为pb4并将第二鼓风机的运行时长调节为tb4;< p="">
当所述第二鼓风机对所述接触氧化池输送空气时，接触氧化池内的水位计会检测接触氧化池水位Hj，检测完成后，中央处理器会Hj与Hj0矩阵中的各项参数进行对比：
当Hj≤Hj1时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为Pb1并将第二鼓风机的运行时长调节为Tb1;
当Hj1<hj≤hj2时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为pb2并将第二鼓风机的运行时长调节为tb2;< p="">
当Hj2<hj≤hj3时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为pb3并将第二鼓风机的运行时长调节为tb3;< p="">
当Hj3<hj≤hj4时，中央处理器将第二鼓风机的运行功率调节为pb4并将第二鼓风机的运行时长调节为tb4。< p="">
进一步地，所述混凝反应池包括：
PFS罐，其与所述混凝反应池相连，PFS罐内部装有PFS，用以絮凝和吸附混凝反应池中污水的溶质;
PAM罐，其与所述混凝反应池相连，PAM罐内部装有PAM，用以絮凝和吸附混凝反应池内污水的溶质。
进一步地，所述接触消毒池内设有次氯酸钠罐，次氯酸钠罐内部装有次氯酸钠，用以对污水进行漂白和消毒。
进一步地，所述中央处理器中还设有第二预设水位矩阵组Hb(Hh0，Hc0)，其中Hh0为混凝反应池预设水位矩阵，Hc0为接触消毒池预设水位矩阵;对于混凝反应池预设水位矩阵Hh0，Hh0(Hh1，Hh2，Hh3，Hh4)，其中，Hh1为混凝反应池第一预设水位，Hh2为混凝反应池第二预设水位，Hh3为混凝反应池第三预设水位，Hh4为混凝反应池第四预设水位;对于接触消毒池预设水位矩阵Hc0，Hc0(Hc1，Hc2，Hc3，Hc4)，其中，Hc1为接触消毒池第一预设水位，Hc2为接触消毒池第二预设水位，Hc3为接触消毒池第三预设水位，Hc4为接触消毒池第四预设水位;
所述中央处理器中还设有预设加药量矩阵组G0(Ga，Gb，Gc)，其中，Ga为PFS罐预设加药矩阵，Gb为PAM罐预设加药矩阵，Gc为次氯酸钠罐预设加药矩阵，对于PFS罐预设加药矩阵Ga，Ga(Ga1，Ga2，Ga3，Ga4)，其中，Ga1为PFS罐第一预设加药量，Ga2为PFS罐第二预设加药量，Ga3为PFS罐第三预设加药量，Ga4为PFS罐第四预设加药量;对于PAM罐预设加药矩阵Gb，Gb(Gb1，Gb2，Gb3，Gb4)，其中，Gb1为PAM罐第一预设加药量，Gb2为PAM罐第二预设加药量，Gb3为PAM罐第三预设加药量，Gb4为PAM罐第四预设加药量;对于次氯酸钠罐预设加药矩阵Gc(Gc1，Gc2，Gc3，Gc4)，其中，Gc1为次氯酸钠罐第一预设加药量，Gc2为次氯酸钠罐第二预设加药量，Gc3为次氯酸钠罐第三预设加药量，Gc4为次氯酸钠罐第四预设加药量;
当所述PFS罐向所述混凝反应池内添加PFS、所述PAM罐向混凝反应池内添加PAM时，混凝反应池内的水位计会检测池内水位Hh，检测完成后，中央处理器会将Hh与Hh0矩阵中的各项参数进行比对：
当Hh≤Hh1时，中央处理器将PFS罐的加药量调节为Ga1，将PAM罐的加药量调节为Gb1;
当Hh1<hh≤hh2时，中央处理器将pfs罐的加药量调节为ga2，将pam罐的加药量调节为gb2;< p="">
当Hh2<hh≤hh3时，中央处理器将pfs罐的加药量调节为ga3，将pam罐的加药量调节为gb3;< p="">
当Hh3<hh≤hh4时，中央处理器将pfs罐的加药量调节为ga4，将pam罐的加药量调节为gb4;< p="">
当所述次氯酸钠罐向所述接触消毒池添加次氯酸钠时，接触消毒池内的水位计会检测接触消毒池内水位Hc，检测完成后，中央处理器将Hc与Hc0矩阵中的各项参数进行对比：
当Hc≤Hc1时，中央处理器将次氯酸钠罐的加药量调节为Gc1;
当Hc1<hc≤hc2时，中央处理器将次氯酸钠罐的加药量调节为gc2;< p="">
当Hc2<hc≤hc3时，中央处理器将次氯酸钠罐的加药量调节为gc3;< p="">
当Hc3<hc≤hc4时，中央处理器将次氯酸钠罐的加药量调节为gc4。< p="">
进一步地，所述缺氧池备有底部曝气装置，用以对缺氧池进行曝气。
进一步地，所述接触氧化池内含有硝化菌，用以将污水中的氨氮转化为硝酸盐氮。
进一步地，所述缺氧池内含有反硝化细菌，用以对述接触氧化池中回流的硝酸盐氮进行反硝化还原处理。
与现有技术相比，本发明的有益效果在于，本发明通过在系统中添加中央处理器，通过对指定水池中的水位进行检测并根据检测结果选取对应的鼓风机运行参数和对应加药罐的加药量，能够有效提高所述系统对污泥的控制。
尤其，所述缺氧池的底部曝气装置，当污水氨氮超标时，可开启缺氧池曝气管阀门，对缺氧池进行曝气，同时停止所述接触氧化池中混合液回流，能够有效保护污水处理中缺氧池环节的安全。
尤其，所述第三泵，可以对所述竖流沉淀池中的污泥进行输送到污泥池和缺氧池中，能够有效满足缺氧池中的污泥活性和所需微生物。
尤其，所述接触氧化池，其含有硝化菌，能够快速有效地将污水中的氨氮转化为硝酸盐氮，同时为下一步提供原料。
尤其，所述缺氧池，其含有反硝化细菌，能够有效将所述接触氧化池内转化后的硝酸盐氮进行反硝化还原处理，产生氮气，能够对污水进行有效除氮。
尤其，所述混凝反应池内包括PFS罐和PAM罐，其分别含有的PFS和PAM能够将污水中的溶质、悬浮物、胶体进行快速絮凝并沉淀，降低污水中含磷浓度。
尤其，所述接触消毒池，其设有次氯酸钠罐，能够对污水进行漂白和消毒处理，显著提升了水质安全，从而达到排放标准。（发明人黄全辉）
