公布日：2022.05.06
申请日：2021.12.31
分类号：C02F1/52(2006.01)I;C02F103/16(2006.01)N
摘要
本发明涉及电镀废水处理技术领域，且公开了一种用于电镀废水的处理装置，解决了目前市场上用于处理电镀废水的装置在使用的时候，不能对废水进行搅拌，使得废水无法与拖入的药剂充分发生发应，以及不方便将沉淀在沉淀池内的金属沉淀物取出来的问题，其包括沉淀池，沉淀池内腔的顶部固定安装有支撑架，支撑架为十字形状，且支撑架的四端均固定连接在沉淀池内壁的顶端，在支撑架纵横的交叉处设置为圆板状，且在支撑架圆板处的中间位置卡死和有第三通孔，支撑架圆板处的顶部固定安装有液压缸，本发明，通过电机带动转动部上的搅拌叶在沉淀池内转动，使投入的药剂能够充分与电镀废水发生反应，而且还方便将金属的沉淀物从沉淀池内取出来。
权利要求书
1.一种用于电镀废水的处理装置，包括沉淀池(1)，其特征在于：所述沉淀池(1)内腔的顶部固定安装有支撑架(2)，所述支撑架(2)为十字形状，且支撑架(2)的四端均固定连接在沉淀池(1)内壁的顶端，在支撑架(2)纵横的交叉处设置为圆板状，且在支撑架(2)圆板处的中间位置卡死和有第三通孔(20)，所述支撑架(2)圆板处的顶部固定安装有液压缸(3)，且液压缸(3)的伸缩端贯穿第三通孔(20)并延伸至沉淀池(1)的内腔中，所述沉淀池(1)的内腔中设置有固定部(12)，且在固定部(12)顶部的中间位置开设有第四通孔(21)，所述液压缸(3)位于沉淀池(1)内腔中的伸缩端还贯穿固定部(12)上的第四通孔(21)并延伸至固定部(12)的底部，且在液压缸(3)伸缩端的顶端固定安装有挤压板(17)，所述挤压板(17)位于固定部(12)的下方。
2.根据权利要求1所述的一种用于电镀废水的处理装置，其特征在于：所述固定部(12)两侧的顶部和底部均固定连接有固定杆(13)，且四个固定杆(13)远离固定部(12)的一端均固定连接在沉淀池(1)的内壁上，所述固定部(12)的侧壁上开设有环形槽(22)，且在环形槽(22)处套接有转动部(14)，所述转动部(14)能够在固定部(12)侧壁上的环形槽(22)内转动，且在转动部(14)的两侧均固定安装有搅拌叶(15)。
3.根据权利要求2所述的一种用于电镀废水的处理装置，其特征在于：所述转动部(14)侧壁的顶部开设有齿槽(23)，其中一个所述固定杆(13)靠近固定部(12)的一端上开设有第一通孔(18)，所述支撑架(2)上开设有第二通孔(19)，且第一通孔(18)与第二通孔(19)上下对齐，所述第一通孔(18)和第二通孔(19)的内部插接有从动杆(4)，且从动杆(4)的顶端贯穿第二通孔(19)并延伸至支撑架(2)的顶部，从动杆(4)的底端贯穿第一通孔(18)并延伸至固定杆(13)的底部，且在从动杆(4)的底端上固定安装有齿轮(16)，所述齿轮(16)的侧壁与转动部(14)上齿槽(23)啮合连接。
4.根据权利要求3所述的一种用于电镀废水的处理装置，其特征在于：所述第二通孔(19)设置为圆球状，所述从动杆(4)上设置有圆球，且从动杆(4)上的圆球位于第二通孔(19)内并能够在其内部进行转动，所述从动杆(4)的顶端固定安装有传动带(5)，所述沉淀池(1)的侧壁上固定安装有电机(6)，且传动带(5)远离从动杆(4)的一端固定连接在电机(6)的输出端上。
5.根据权利要求4所述的一种用于电镀废水的处理装置，其特征在于：所述齿轮(16)底部的水平高度高于两个所述搅拌叶(15)最高点的水平高度。
6.根据权利要求1所述的一种用于电镀废水的处理装置，其特征在于：所述沉淀池(1)内腔的底部设置有坡度，且在沉淀池(1)内腔底部的中间位置固定固定连接有有沉淀部(8)，所述沉淀部(8)顶部的中间开设有凹槽(9)，且凹槽(9)与沉淀池(1)的内腔相连通，所述沉淀部(8)的底端延伸至沉淀池(1)的底部，且在沉淀部(8)的底端上螺纹连接有封盖(11)。
7.根据权利要求6所述的一种用于电镀废水的处理装置，其特征在于：所述凹槽(9)底部的中间位置开设有出料口(10)，且出料口(10)的直径小于凹槽(9)的直径，所述挤压板(17)的直径小于凹槽(9)的直径且大于出料口(10)的直径。
8.根据权利要求1所述的一种用于电镀废水的处理装置，其特征在于：所述沉淀池(1)的底部均匀且固定安装有四个支撑腿(7)。
9.根据权利要求1所述的一种用于电镀废水的处理装置，其特征在于：所述挤压板(17)的底部固定安装有密封垫。
发明内容
针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本发明提供一种用于电镀废水的处理装置，有效的解决了目前市场上用于处理电镀废水的装置在使用的时候，不能对废水进行搅拌，使得废水无法与拖入的药剂充分发生发应，以及不方便将沉淀在沉淀池内的金属沉淀物取出来的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种用于电镀废水的处理装置，包括沉淀池，所述沉淀池内腔的顶部固定安装有支撑架，所述支撑架为十字形状，且支撑架的四端均固定连接在沉淀池内壁的顶端，在支撑架纵横的交叉处设置为圆板状，且在支撑架圆板处的中间位置卡死和有第三通孔，所述支撑架圆板处的顶部固定安装有液压缸，且液压缸的伸缩端贯穿第三通孔并延伸至沉淀池的内腔中，所述沉淀池的内腔中设置有固定部，且在固定部顶部的中间位置开设有第四通孔，所述液压缸位于沉淀池内腔中的伸缩端还贯穿固定部上的第四通孔并延伸至固定部的底部，且在液压缸伸缩端的顶端固定安装有挤压板，所述挤压板位于固定部的下方。
进一步的，所述固定部两侧的顶部和底部均固定连接有固定杆，且四个固定杆远离固定部的一端均固定连接在沉淀池的内壁上，所述固定部的侧壁上开设有环形槽，且在环形槽处套接有转动部，所述转动部能够在固定部侧壁上的环形槽内转动，且在转动部的两侧均固定安装有搅拌叶。
进一步的，所述转动部侧壁的顶部开设有齿槽，其中一个所述固定杆靠近固定部的一端上开设有第一通孔，所述支撑架上开设有第二通孔，且第一通孔与第二通孔上下对齐，所述第一通孔和第二通孔的内部插接有从动杆，且从动杆的顶端贯穿第二通孔并延伸至支撑架的顶部，从动杆的底端贯穿第一通孔并延伸至固定杆的底部，且在从动杆的底端上固定安装有齿轮，所述齿轮的侧壁与转动部上齿槽啮合连接。
进一步的，所述第二通孔设置为圆球状，所述从动杆上设置有圆球，且从动杆上的圆球位于第二通孔内并能够在其内部进行转动，所述从动杆的顶端固定安装有传动带，所述沉淀池的侧壁上固定安装有电机，且传动带远离从动杆的一端固定连接在电机的输出端上。
进一步的，所述齿轮底部的水平高度高于两个所述搅拌叶最高点的水平高度。
进一步的，所述沉淀池内腔的底部设置有坡度，且在沉淀池内腔底部的中间位置固定固定连接有有沉淀部，所述沉淀部顶部的中间开设有凹槽，且凹槽与沉淀池的内腔相连通，所述沉淀部的底端延伸至沉淀池的底部，且在沉淀部的底端上螺纹连接有封盖。
进一步的，所述凹槽底部的中间位置开设有出料口，且出料口的直径小于凹槽的直径，所述挤压板的直径小于凹槽的直径且大于出料口的直径。
进一步的，所述沉淀池的底部均匀且固定安装有四个支撑腿。
进一步的，所述挤压板的底部固定安装有密封垫。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1)、在使用装置的时候，通过运转电机使带动传动带转动，然后传动带会带动从动杆在第一通孔与第二通孔内转动，使从动杆带动其底端的齿轮转动，再然后齿轮与转动部上的齿槽啮合连接，使得转动部在固定部上的环形槽内转动，转动部在转动的时候带动两个搅拌叶在沉淀池会旋转，便可以将拖入沉淀池内的药剂与电镀废水充分发生发应，这样就能够将电镀废水中的金属杂质发生沉淀，最后金属的沉淀物就会顺着沉淀池内腔底部的坡面滑动，最后汇聚在沉淀部上的凹槽与出料口内，通过搅拌叶的搅拌能够使电镀废水中的金属杂质充分发生发应并沉淀；
2)、在对沉淀池内沉淀的金属杂质进行处理的时候，通过控制液压缸推动挤压板向下移动，液压缸的伸缩端在第三通孔和第四通孔内向下移动，然后挤压板便会慢慢移动到沉淀部上的凹槽内，挤压板移动到凹槽内时，会将凹槽内的电镀废水从凹槽内挤压出来，这样挤压板会抵在凹槽的底部并将凹槽底部的出料口堵住，最后拧掉出料口底部的封盖，这时汇聚在出料口内的金属沉淀物便会从沉淀部底部的出料口处排出来，而沉淀池内的废水因为挤压板的阻挡无法从出料口处流出来，这样便可以将对金属沉淀物从沉淀池内取出来。
（发明人：匡优新）
