公布日：2022.05.27
申请日：2022.03.16
分类号：C02F1/52(2006.01)I;B01D21/28(2006.01)I;B01D21/00(2006.01)I;B01F27/85(2022.01)I;B01F33/40(2022.01)I;B01F35/11(2022.01)I;
C02F103/16(2006.01)N
摘要
本发明涉及废水处理相关技术领域，且公开了一种电镀废水回用设备，包括处理罐，所述处理罐的内壁活动安装有支撑架，且处理罐的内腔呈椭圆形，所述支撑架的表面活动安装有净化块，且净化块的顶端设置有橡胶头。本发明通过设置有驱动线圈和驱动磁块，并同时设置有排液杆，因而废物沉淀时，通过净化块下移时会使得驱动线圈产生与驱动磁块相斥的磁力并使其净化块快速顶起，其顶起会使得净化块中的废物超重下沉，从而增加其废物的沉淀速率，并通过排液杆可使得处理罐内腔中的气流缓慢流出，从而使得净化块中的废液在恢复时降低因失重而导致沉淀废物上移的现象，如此循环，最终实现加快废物沉淀速率的目的。
权利要求书
1.一种电镀废水回用设备，包括处理罐（1），其特征在于：所述处理罐（1）的内壁活动安装有支撑架（6），且处理罐（1）的内腔呈椭圆形，所述支撑架（6）的表面活动安装有净化块（2），且净化块（2）的顶端设置有橡胶头，所述处理罐（1）的顶端表面一侧固定安装废液管（27），且处理罐（1）的顶端表面固定安装有进液管（25），所述处理罐（1）的顶端中部开设有用于实现处理罐（1）内腔中压力均衡的缓气孔（26），所述净化块（2）的内壁底部一侧固定安装有用于实现缓慢释放压力的排液杆（5），所述支撑架（6）的表面一侧开设有与排液杆（5）内腔相通的输气道（20），且支撑架（6）的底端中部固定安装有驱动磁块（110），所述处理罐（1）底部内壁的中部固定安装有用于实现间断接通的驱动线圈（11），且驱动线圈（11）与驱动磁块（110）磁力相斥，所述净化块（2）的侧壁固定安装有转动推块（4），且处理罐（1）的内壁固定活动安装有与转动推块（4）适配的转动拨块（21），所述转动拨块（21）的一端固定安装有复位弹簧（22），且复位弹簧（22）的一端与处理罐（1）的内壁固定安装，实现转动拨块（21）与转动推块（4）配合实现净化块（2）上移时进行转动，所述净化块（2）的底端开设有形状呈C形的输料槽（7），所述净化块（2）的内壁底部固定安装有搅拌棒（3），且搅拌棒（3）的顶端开设有排污口（24），所述搅拌棒（3）的侧壁为网孔状，所述搅拌棒（3）数量至少为四个，且搅拌棒（3）的内腔与输料槽（7）相通，所述支撑架（6）的底端固定安装有与输气道（20）内腔相通的复位杆（17），所述复位杆（17）的底部设置有用于实现复位杆（17）内腔向处理罐（1）内腔气流单向流动的防逆球（16），且净化块（2）与支撑架（6）之间相对转动实现输气道（20）可选择的与输料槽（7）或排液杆（5）相通，所述处理罐（1）的内壁设置有倾斜的复位面（10），且处理罐（1）内壁一侧开设有位于复位面（10）低侧的连通道（15），所述处理罐（1）的底部一侧螺纹连接有与连通道（15）相通的放液盖（13），且放液盖（13）的内壁活动安装有进气挡球（12），所述放液盖（13）的侧壁固定安装有用于通过放液盖（13）与处理罐（1）之间的螺纹拧入量实现与连通道（15）间进行通断的排液管（14），所述支撑架（6）置于处理罐（1）内腔最低端时进气挡球（12）与防逆球（16）贴合实现复位杆（17）与放液盖（13）相通，所述支撑架（6）的侧壁固定安装有导电片（18），所述处理罐（1）的内壁底部一侧固定安装有与导电片（18）适配的传电拨片（19），且导电片（18）的一端通过导线连通外部的电源，所述传电拨片（19）的一端连接有保护电阻，保护电阻电连接有接触器组，接触器的一端经驱动线圈（11）连通至电源形成闭合电路，所述转动推块（4）设为长方体，且转动推块（4）有倾斜和竖直布置两种，竖直的转动推块（4）有两个，倾斜的转动推块（4）至少有十个，所述净化块（2）侧壁并位于竖直转动推块（4）上方固定安装有强制推块（40），且强制推块（40）与转动推块（4）的倾斜方向一致，所述转动拨块（21）在处理罐（1）上的偏转角度在零度至九十度内。
2.根据权利要求1所述的一种电镀废水回用设备，其特征在于：所述支撑架（6）的中部开设有向支撑架（6）侧壁流通的排污道（8），所述处理罐（1）的侧壁底部固定安装有用于实现排污道（8）中废物排出的排污管（9）。
3.根据权利要求1所述的一种电镀废水回用设备，其特征在于：所述排液杆（5）设为伸缩杆，且其排液杆（5）的内腔为细孔，所述排液杆（5）的顶端固定安装有与排液杆（5）内腔相通的浮子（23），且浮子（23）的开口向下。
发明内容
针对背景技术中提出的现有电镀废水处理设备在使用过程中存在的不足，本发明提供了一种电镀废水回用设备，具备实现加快废物沉淀速率的优点，解决了上述背景技术中提出的技术问题。
本发明提供如下技术方案：一种电镀废水回用设备，包括处理罐，所述处理罐的内壁活动安装有支撑架，且处理罐的内腔呈椭圆形，所述支撑架的表面活动安装有净化块，且净化块的顶端设置有橡胶头，所述处理罐的顶端表面一侧固定安装废液管，且处理罐的顶端表面固定安装有进液管，所述处理罐的顶端中部开设有用于实现处理罐内腔中压力均衡的缓气孔，所述净化块的内壁底部一侧固定安装有用于实现缓慢释放压力的排液杆，所述支撑架的表面一侧开设有与排液杆内腔相通的输气道，且支撑架的底端中部固定安装有驱动磁块，所述处理罐底部内壁的中部固定安装有用于实现间断接通的驱动线圈，且驱动线圈与驱动磁块磁力相斥。
优选的，所述净化块的侧壁固定安装有转动推块，且处理罐的内壁固定活动安装有与转动推块适配的转动拨块，所述转动拨块的一端固定安装有复位弹簧，且复位弹簧的一端与处理罐的内壁固定安装，实现转动拨块与转动推块配合实现净化块上移时进行转动，所述净化块的底端开设有形状呈C形的输料槽，所述净化块的内壁底部固定安装有搅拌棒，且搅拌棒的顶端开设有排污口，所述搅拌棒的侧壁为网孔状，所述搅拌棒数量至少为四个，且搅拌棒的内腔与输料槽相通，所述支撑架的底端固定安装有与输气道内腔相通的复位杆，所述复位杆的底部设置有用于实现复位杆内腔向处理罐内腔气流单向流动的防逆球，且净化块与支撑架之间相对转动实现输气道可选择的与输料槽或排液杆相通。
优选的，所述支撑架的中部开设有向支撑架侧壁流通的排污道，所述处理罐的侧壁底部固定安装有用于实现排污道中废物排出的排污管。
优选的，所述处理罐的内壁设置有倾斜的复位面，且处理罐内壁一侧开设有位于复位面低侧的连通道，所述处理罐的底部一侧螺纹连接有与连通道相通的放液盖，且放液盖的内壁活动安装有进气挡球，所述放液盖的侧壁固定安装有用于通过放液盖与处理罐之间的螺纹拧入量实现与连通道间进行通断的排液管，所述支撑架置于处理罐内腔最低端时进气挡球与防逆球贴合实现复位杆与放液盖相通。
优选的，所述支撑架的侧壁固定安装有导电片，所述处理罐的内壁底部一侧固定安装有与导电片适配的传电拨片，且导电片的一端通过导线连通外部的电源，所述传电拨片的一端连接有保护电阻，保护电阻电连接有接触器组，接触器的一端经驱动线圈连通至电源形成闭合电路。
优选的，所述转动推块设为长方体，且转动推块有倾斜和竖直布置两种，竖直的转动推块有两个，倾斜的转动推块至少有十个，所述净化块侧壁并位于竖直转动推块上方固定安装有强制推块，且强制推块与转动推块的倾斜方向一致，所述转动拨块在处理罐上的偏转角度在零度至九十度内。
优选的，所述排液杆设为伸缩杆，且其排液杆的内腔为细孔，所述排液杆的顶端固定安装有与排液杆内腔相通的浮子，且浮子的开口向下。
本发明具备以下有益效果：
1、本发明通过设置有驱动线圈和驱动磁块，并同时设置有排液杆，因而废物沉淀时，通过净化块下移时会使得驱动线圈产生与驱动磁块相斥的磁力并使其净化块快速顶起，其顶起会使得净化块中的废物超重下沉，从而增加其废物的沉淀速率，并通过排液杆可使得处理罐内腔中的气流缓慢流出，从而使得净化块中的废液在恢复时降低因失重而导致沉淀废物上移的现象，如此循环，最终实现加快废物沉淀速率的目的。
2、本发明通过在净化块侧设置有转动推块，并同时在净化块中设置有搅拌棒，因而在废液与化学药剂倒入至净化块中时，通过输气道中的气流会率先的从搅拌棒中溢出，进而通过搅拌棒中溢出的气泡加快净化块中废液与化学药剂的混合，与此同时，通过转动推块与转动拨块的作用，使得净化块可带动搅拌棒进行周转，进一步的通过搅拌棒对净化块中的废液进行搅拌，最终，通过搅拌棒转动一圈后，会使得输气道仅与排液杆相通，因而实现在搅拌完成之后，通过其排液杆的介入，实现其持续加快沉淀的现象，最终达到加快药剂混合速率及先搅拌后沉淀的目的。
3、本发明通过进气挡球设置在放液盖中，并通过净化块在上移的过程中，通过进气挡球的打开实现处理罐内腔的气流缓和，而当其需要清洗后，通过放液盖介入清洗介质，并在处理罐内腔吸附时，会将清洗介质输入至处理罐的内腔，并通过净化块的下移保证其清洗介质从搅拌棒射出，从而通过搅拌棒的射流对净化块内壁进行清洁，最终实现便于清洁的目的。
（发明人：杜伟;石松;张夫玺）
