申请日2016.06.23
公开(公告)日2017.01.18
IPC分类号C02F3/12
摘要
实用新型涉及一种污水处理用立体式氧化沟，包括氧化沟沟体和位于沟体上端部的曝气转刷、位于沟体内底部的推流器，曝气转刷和推流器之间设有水平设置的隔板，隔板两侧对称设有一对导流板组件，导流板组件通过连接件与氧化沟侧壁连接;导流板组件包括导流板I和导流板II，导流板I和导流板II同向间隔设置，导流板I位于导流板II外侧，导流板I和导流板II均由首端弧形段和末端线形段组成;双导流板减小了凹侧流道的宽度，改变了弯道处的流场特性，加剧了水流的紊流程度，增大了流速;消除了沉淀，提高了污水处理效果;进一步的，连接件为弹性连接件，起到较好的缓冲和消除应力作用，延长导流板组件的使用寿命。
摘要附图
权利要求书
1.一种污水处理用立体式氧化沟，包括氧化沟沟体和位于沟体上端部的曝气转刷、位于沟体内底部的推流器，所述曝气转刷和所述推流器之间设有水平设置的隔板，其特征在于：所述隔板两侧对称设有一对导流板组件，所述导流板组件通过连接件与所述氧化沟侧壁连接;所述导流板组件包括导流板I和导流板II，所述导流板I和导流板II同向间隔设置，所述导流板I位于所述导流板II外侧，所述导流板I和导流板II均由首端弧形段和末端线形段组成。
2.根据权利要求1所述的一种污水处理用立体式氧化沟，其特征在于，所述一对导流板组件的弧形段径向对称，所述一对导流板组件的线形段轴向对称;所述导流板I的弧形段半径R是所述导流板II的弧形段半径r的3倍;所述导流板I的线形段长度为R，所述导流板II的线形段长度为r。
3.根据权利要求1所述的一种污水处理用立体式氧化沟，其特征在于，所述连接件为弹性连接件。
说明书
一种污水处理用立体式氧化沟
技术领域
本实用新型涉及一种污水处理用立体式氧化沟。
背景技术
氧化沟是活性污泥法的一种改良技术，结构简单，依靠表面曝气机械和水下推动装置对混合液进行充氧、搅拌和推流，混合液在沟道中不断循环流动的过程中完成有机物的去除和脱氮除磷，具有污染物去除率高、出水水质好、运行工况稳定等优点，已成为国内外城镇污水处理厂的主选工艺之一;立体循环一体化氧化沟(Integrated OxidationDitch with Vertical Circle，简称IODVC)，具有占地面积小、能耗低等特点;由于IODVC采用上下沟道的结构设置，虽然导流板凹凸侧及下沟道的污泥沉降到底部会被高速循环的混合液冲击而不发生淤积，但大范围的低速区势必会造成回流现象，导致混合液逆向流动而造成动力消耗;为此，本实用新型通过加装双导流板及延长导流板末端长度来解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型目的是为了克服现有技术的不足而提供一种污水处理用立体式氧化沟。
为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种污水处理用立体式氧化沟，包括氧化沟沟体和位于沟体上端部的曝气转刷、位于沟体内底部的推流器，所述曝气转刷和所述推流器之间设有水平设置的隔板，所述隔板两侧对称设有一对导流板组件，所述导流板组件通过连接件与所述氧化沟侧壁连接;所述导流板组件包括导流板I和导流板II，所述导流板I和导流板II同向间隔设置，所述导流板I位于所述导流板II外侧，所述导流板I和导流板II均由首端弧形段和末端线形段组成。
作为本实用新型进一步改进的，所述一对导流板组件的弧形段径向对称，所述一对导流板组件的线形段轴向对称;所述导流板I的弧形段半径R是所述导流板II的弧形段半径r的3倍：所述导流板I的线形段长度为R，所述导流板II的线形段长度为r。
作为本实用新型进一步改进的，所述连接件为弹性连接件。
作为本实用新型进一步改进的，由于上述技术方案的运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：
本实用新型方案提供一种污水处理用立体式氧化沟，双导流板使氧化沟道中混合液低流速区域占比明显下降，相应高流速区域占比有较大幅度提高，氧化沟道中整体混合效果明显改善;双导流板可以有效提高下沟道特别是靠近隔板下方处混合液的流速，使下沟道内混合液流速分布更加均匀，减小了此处回流区范围，而且导流板凹凸两侧的低速区域较单导流板有明显改善，特别是在右侧导流板凹凸两侧处，由于高速液流的冲击，使氧化弯道断面的流速分布更加均匀，混合液在上下沟道的过渡更加平稳，有利于整体流场的稳定;进一步的，在左侧弯道出口处(隔板左侧上方)，由于双导流板的存在，回流区几乎全部消失;双导流板减小了凹侧流道的宽度，改变了弯道处的流场特性，加剧了水流的紊流程度，增大了流速;进一步的，连接件为弹性连接件，起到较好的缓冲和消除应力作用，延长导流板组件的使用寿命。消除了沉淀，提高了污水处理效果。
