申请日2016.08.31
公开(公告)日2017.01.04
IPC分类号C02F9/14; C02F101/20
摘要
本发明公开了一种工业废水的处理系统及处理方法，该处理系统及处理方法用于对液晶面板生产过程产生的Ag+等重金属离子污染物以及TOC、TN、TP等附带污染物的工业废水。该处理系统及处理方法可对所述工业废水进行物化沉淀、生化处理、零排放处理的连续处理，使得该工业废水满足重金属离子的零排放的标准，且获得的净水还可重复利用;同时，在物化沉淀及生化处理过程中产生的污泥还可形成泥饼，外运另行处理。该工业废水的处理方法使得对于上述工业废水的处理形成一连续、循环处理的工艺，减少污染与浪费。
摘要附图
权利要求书
1.一种工业废水的处理系统，其特征在于，包括：
物化沉淀池组，包括依次相连的pH调节池、沉淀反应池、混液池，所述pH调节池中投加有无机碱液，所述沉淀反应池内投加有沉淀剂，所述混液池中投加有混凝剂和絮凝剂;其中，工业废水依次流经所述pH调节池、沉淀反应池和所述混液池，获得第一污泥和第一产水;
生化池组，包括依次相连的无氧池和好氧池，所述无氧池和所述好氧池中分别驯养有无氧微生物和好氧微生物;其中，所述第一产水依次流经所述无氧池和所述好氧池，获得第二污泥和第二产水;
零排放系统，包括依次相连的第一浓缩系统和第二浓缩系统;其中，所述第二产水依次流经所述第一浓缩系统和所述第二浓缩系统，分别获得第一净水以及第二净水、第三产水;
污泥处理系统，用于对所述第一污泥和/或所述第二污泥进行泥水分离，获得浓缩污泥，继而获得泥饼和第四产水。
2.根据权利要求1所述的处理系统，其特征在于，所述物化沉淀池组还包括：与所述混液池相连的无机沉淀池;其中，所述工业废水依次流经所述pH调节池、沉淀反应池和所述混液池后，再经所述无机沉淀池进行泥水分离，获得所述第一污泥和所述第一产水;
所述生化池组还包括：与所述好氧池相连的有机沉淀池;其中，所述第一产水依次流经所述无氧池和所述好氧池后，再经所述有机沉淀池进行泥水分离，获得所述第二污泥和所述第二产水。
3.根据权利要求1或2所述的处理系统，其特征在于，所述物化沉淀池组还包括：与所述沉淀反应池相连的污泥结晶反应池;其中，部分所述浓缩污泥返回至所述污泥结晶反应池中，且部分所述工业废水流入所述污泥结晶反应池中，获得第一混合物，所述第一混合物流入所述沉淀反应池中。
4.根据权利要求3所述的处理系统，其特征在于，还包括：
原水池，与所述物化沉淀池组相连，所述原水池用于存储所述工业废水;
物化产水池，设置于所述物化沉淀池组与所述生化池组之间，所述物化产水池用于存储所述第一产水;
有机产水池，设置于所述生化池组与所述零排放系统之间，所述有机产水池用于存储所述第二产水;
污泥储池，与所述物化沉淀池组和所述生化池组均相连，所述污泥储池用于存储所述第一污泥和第二污泥;
以及收集池，与所述零排放系统及所述原水池均相连，所述收集池用于存储所述第三产水。
5.根据权利要求1所述的处理系统，其特征在于，所述第一浓缩系统为反渗透系统，所述第二浓缩系统为蒸发浓缩系统。
6.一种工业废水的处理方法，采用如权利要求1所述的处理系统，其特征在于，所述处理方法包括以下步骤：
物化沉淀步骤：将工业废水依次流经pH调节池、沉淀反应池和混液池，获得第一污泥和第一产水;其中，所述工业废水中含有不超过200ppm的Ag+;
生化处理步骤：将所述第一产水依次流经无氧池和好氧池，获得第二污泥和第二产水;
零排放处理步骤：将所述第二产水依次流经第一浓缩系统和第二浓缩系统，分别获得第一净水以及第二净水、第三产水;
污泥处理步骤：将所述第一污泥和/或所述第二污泥在所述污泥处理系统中进行泥水分离，获得浓缩污泥，继而获得泥饼和第四产水;
其中，监测所述第二净水是否达标，若所述第二净水不达标，则将所述第二净水返回至所述物化沉淀步骤中，直至所述第二净水达标。
7.根据权利要求6所述的处理方法，其特征在于，所述物化沉淀步骤还包括：所述工业废水依次流经所述pH调节池、沉淀反应池和所述混液池后，再经与所述混液池相连的无机沉淀池进行泥水分离，获得所述第一污泥和所述第一产水;
所述生化处理步骤还包括：所述第一产水依次流经所述无氧池和所述好氧池后，再经与所述好氧池相连的有机沉淀池进行泥水分离，获得所述第二污泥和所述第二产水。
8.根据权利要求7所述的处理方法，其特征在于，所述物化沉淀步骤还包括：部分所述浓缩污泥返回至与所述沉淀反应池相连的污泥结晶反应池中，且部分所述工业废水流入所述污泥结晶反应池中，获得第一混合物，所述第一混合物流入所述沉淀反应池中;
所述生化处理步骤还包括：部分所述浓缩污泥返回至所述无氧池和所述好氧池中，对应分别获得第二混合物和第三混合物，所述第二混合物流入所述好氧池中与所述第三混合物合并。
9.根据权利要求8所述的处理方法，其特征在于，所述零排放处理步骤还包括：将所述第二产水在设置于所述生化池组与所述零排放系统之间的有机产水池中将pH调节至10.5～11后，再依次流经所述第一浓缩系统和所述第二浓缩系统。
10.根据权利要求6所述的处理方法，其特征在于，将所述工业废水在所述pH调节池中调节pH至6.5～7.5;
所述沉淀反应池中投加有浓度为500ppm～5000ppm的FeCl3溶液;所述混液池中投加有浓度为500ppm～5000ppm的聚合AlCl3溶液和浓度为1ppm～100ppm的高分子絮凝剂;
所述无氧池中驯养的无氧微生物的浓度和所述好氧池中驯养的好氧微生物的浓度均为5000ppm～20000ppm。
说明书
一种工业废水的处理系统及处理方法
技术领域
本发明属于污水处理技术领域，具体地讲，涉及一种工业废水的处理系统及处理方法。
背景技术
在显示面板的生产制造过程中，通常会产生含Ag+等重金属离子污染物的废水。根据重金属污染物不能直接排放的法规要求，需要对这些废水进行零排放，相应地，需要零排放系统。
另外，上述废水中除重金属以外，还含有大量的TOC(总有机碳)、TN(总氮)、TP(总磷)等附带污染物。针对上述组成的废水，目前一般采用传统的蒸发工艺来处理，但该蒸发工艺具有成本高、易结垢等风险。
发明内容
为解决上述现有技术存在的问题，本发明提供了一种工业废水的处理系统及处理方法，该处理系统及处理方法能够实现工业废水的零排放，满足了相关的法规要求。
为了达到上述发明目的，本发明采用了如下的技术方案：
一种工业废水的处理系统，包括：物化沉淀池组，包括依次相连的pH调节池、沉淀反应池、混液池，所述pH调节池中投加有无机碱液，所述沉淀反应池中投加有沉淀剂，所述混液池中投加有混凝剂和絮凝剂;其中，工业废水依次流经所述pH调节池、沉淀反应池和所述混液池，获得第一污泥和第一产水;生化池组，包括依次相连的无氧池和好氧池，所述无氧池和所述好氧池中分别驯养有无氧微生物和好氧微生物;其中，所述第一产水依次流经所述无氧池和所述好氧池，获得第二污泥和第二产水;零排放系统，包括依次相连的第一浓缩系统和第二浓缩系统;其中，所述第二产水依次流经所述第一浓缩系统和所述第二浓缩系统，分别获得第一净水以及第二净水、第三产水;污泥处理系统，用于对所述第一污泥和/或所述第二污泥进行泥水分离，获得浓缩污泥，继而获得泥饼和第四产水。
进一步地，所述物化沉淀池组还包括：与所述混液池相连的无机沉淀池;其中，所述工业废水依次流经所述pH调节池、沉淀反应池和所述混液池后，再经所述无机沉淀池进行泥水分离，获得所述第一污泥和所述第一产水;所述生化池组还包括：与所述好氧池相连的有机沉淀池;其中，所述第一产水依次流经所述无氧池和所述好氧池后，再经所述有机沉淀池进行泥水分离，获得所述第二污泥和所述第二产水。
进一步地，所述物化沉淀池组还包括：与所述沉淀反应池相连的污泥结晶反应池;其中，部分所述浓缩污泥返回至所述污泥结晶反应池中，且部分所述工业废水流入所述污泥结晶反应池中，获得第一混合物，所述第一混合物流入所述沉淀反应池中。
进一步地，还包括：原水池，与所述物化沉淀池组相连，所述原水池用于存储所述工业废水;物化产水池，设置于所述物化沉淀池组与所述生化池组之间，所述物化产水池用于存储所述第一产水;有机产水池，设置于所述生化池组与所述零排放系统之间，所述有机产水池用于存储所述第二产水;污泥储池，与所述物化沉淀池组和所述生化池组均相连，所述污泥储池用于存储所述第一污泥和第二污泥;以及收集池，与所述零排放系统及所述原水池相连，所述收集池用于存储所述第三产水。
进一步地，所述第一浓缩系统为反渗透系统，所述第二浓缩系统为蒸发浓缩系统。
本发明的另一目的在于提供一种工业废水的处理方法，采用如上所述的处理系统，所述处理方法包括以下步骤：物化沉淀步骤：将工业废水依次流经pH调节池、沉淀反应池和混液池，获得第一污泥和第一产水;其中，所述工业废水中含有不超过200ppm的Ag+;生化处理步骤：将所述第一产水依次流经无氧池和好氧池，获得第二污泥和第二产水;零排放处理步骤：将所述第二产水依次流经第一浓缩系统和第二浓缩系统，分别获得第一净水以及第二净水、第三产水;污泥处理步骤：将所述第一污泥和/或所述第二污泥在所述污泥处理系统中进行泥水分离，获得浓缩污泥，继而获得泥饼和第四产水;其中，监测所述第二净水是否达标，若所述第二净水不达标，则将所述第二净水返回至所述物化沉淀步骤中，直至所述第二净水达标。
进一步地，所述物化沉淀步骤还包括：所述工业废水依次流经所述pH调节池、沉淀反应池和所述混液池后，再经与所述混液池相连的无机沉淀池进行泥水分离，获得所述第一污泥和所述第一产水;所述生化处理步骤还包括：所述第一产水依次流经所述无氧池和所述好氧池后，再经与所述好氧池相连的有机沉淀池进行泥水分离，获得所述第二污泥和所述第二产水。
进一步地，所述物化沉淀步骤还包括：部分所述浓缩污泥返回至与所述沉淀反应池相连的污泥结晶反应池中，且部分所述工业废水流入所述污泥结晶反应池中，获得第一混合物，所述第一混合物流入所述沉淀反应池中;所述生化处理步骤还包括：部分所述浓缩污泥返回至所述无氧池和所述好氧池中，对应分别获得第二混合物和第三混合物，所述第二混合物流入所述好氧池中与所述第三混合物合并。
进一步地，所述零排放处理步骤还包括：将设置于所述生化池组与所述零排放系统之间的第二产水在所述有机产水池中将pH调节至10.5～11后，再依次流经所述第一浓缩系统和所述第二浓缩系统。
进一步地，将所述工业废水在所述pH调节池中调节pH至6.5～7.5;所述沉淀反应池中投加有浓度为500ppm～5000ppm的FeCl3溶液;所述混液池中投加有浓度为500ppm～5000ppm的聚合AlCl3溶液和浓度为1ppm～100ppm的高分子絮凝剂;所述无氧池中驯养的无氧微生物的浓度和所述好氧池中驯养的好氧微生物的浓度均为5000ppm～20000ppm。
本发明公开的工业废水的处理系统及处理方法可有效对液晶面板生产过程中产生的工业废水进行连续处理，不仅满足了重金属离子的零排放要求，同时获得的净水还可重复利用，使得对于工业废水的处理形成一循环处理的过程，减少污染与浪费。
