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半自动化自清洁小型污水处理箱

中国污水处理工程网 时间:2018-3-28 16:47:47

污水处理专利技术

  申请日2015.12.12

  公开(公告)日2016.05.25

  IPC分类号C02F9/14

  摘要

  本实用新型公开了一种半自动化自清洁的小型污水处理箱,包括箱体,所述箱体设有入口和排出口,在入口上设有连接有震动装置的滤网,箱体包括依次设置的第一反应室、第二反应室,所述入口设置在第一反应室上端,所述排出口设置在第二反应室的上端,并在排水口处设有一端伸入第二反应室上端、另一端延伸出箱体并在其上设有自吸泵的排水管;还包括横向设置在第一反应室、第二反应室上方的横杆,并在横杆上径向设有导轨,以及与导轨滑动连接的高压喷头,该高压喷头连接进水软管,该进水软管另一端延伸出箱体并在延伸部分上设有高压泵。本实用新型可对箱体内污泥进行定期清除,解决了现有污水处理设备不具备自清洁能力,导致设备内环境持续恶化的问题。

  摘要附图

 

  权利要求书

  1.一种半自动化自清洁的小型污水处理箱,其特征在于,包括箱体,所述箱体设有入口和排出口,在入口上设有连接有震动装置的滤网(1),箱体包括依次设置的第一反应室(2)、第二反应室(3),所述入口设置在第一反应室上端,所述排出口设置在第二反应室(3)的上端,并在排水口处设有一端伸入第二反应室上端、另一端延伸出箱体并在其上设有自吸泵(4)的排水管(5);还包括横向设置在第一反应室(2)、第二反应室(3)上方的横杆(6),并在横杆上径向设有导轨,以及与导轨滑动连接的高压喷头(7),该高压喷头连接进水软管(9),该进水软管另一端延伸出箱体并在延伸部分上设有高压泵(8)。

  2.根据权利要求1所述的一种半自动化自清洁的小型污水处理箱,其特征在于,所述高压喷头固定连接有用于在导轨中滑动连接的滑轨。

  3.根据权利要求2所述的一种半自动化自清洁的小型污水处理箱,其特征在于,所述高压喷头为半球形,曲面指向下方,并在曲面上均匀设有多个喷水孔,滑轨与高压喷头的顶壁固连。

  4.根据权利要求3所述的一种半自动化自清洁的小型污水处理箱,其特征在于,所述第一反应室(2)、第二反应室(3)的底部均设有出水阀门。

  5.根据权利要求4所述的一种半自动化自清洁的小型污水处理箱,其特征在于,所述箱体上并位于横杆上方还设有可拆卸式箱盖。

  说明书

  一种半自动化自清洁的小型污水处理箱

  技术领域

  本实用新型涉及污水处理设备,具体涉及一种半自动化自清洁的小型污水处理箱,属于环保技术领域。

  背景技术

  污水排放多为工业废水和生活废水两大类,其中工业废水往往含有重金属、化学物质,需要配套的污水处理设备处理后达到标准才能排放,生活废水则有大量的漂浮物,并且含杂质比较复杂。

  现有的污水处理设备已发展地非常成熟,但是现有的不论是大型的工业污水处理设备,还是小型的区域生活污水处理设备,均未考虑到污水处理设备的自清洁能力,众所周知,污水储存过久会堆积大量的污泥并发出恶臭,而污水处理设备在长期的污水处理过程中,并不能将堆积的污泥大部分清除,因此,使污水处理设备内环境持续恶化。

  实用新型内容

  本实用新型的目的在于提供一种半自动化自清洁的小型污水处理箱,解决现有污水处理设备不具备自清洁能力,导致设备内环境持续恶化的问题。

  为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案如下:

  一种半自动化自清洁的小型污水处理箱,包括箱体,所述箱体设有入口和排出口,在入口上设有连接有震动装置的滤网,箱体包括依次设置的第一反应室、第二反应室,所述入口设置在第一反应室上端,所述排出口设置在第二反应室的上端,并在排水口处设有一端伸入第二反应室上端、另一端延伸出箱体并在其上设有自吸泵的排水管;还包括横向设置在第一反应室、第二反应室上方的横杆,并在横杆上径向设有导轨,以及与导轨滑动连接的高压喷头,该高压喷头连接进水软管,该进水软管另一端延伸出箱体并在延伸部分上设有高压泵。

  具体地,所述高压喷头固定连接有用于在导轨中滑动连接的滑轨。

  为了全方位清洗箱体内部,所述高压喷头为半球形,曲面指向下方,并在曲面上均匀设有多个喷水孔,滑轨与高压喷头的顶壁固连。

  为了便于污泥的排出,所述第一反应室、第二反应室的底部均设有出水阀门。

  为了进一步便于观察箱体内部情况,所述箱体上并位于横杆上方还设有可拆卸式箱盖。

  本实用新型与现有技术相比,具有以下优点及有益效果:

  本实用新型在第一反应室、第二反应室上方横向设置横杆并在横杆上设置可移动位置的高压喷头,该高压喷头为半球形曲面指向下方,并在曲面上均匀设有多个喷水孔,在将反应室内污水排出干净的情况下可对箱体内污泥进行定期清除,在对污泥进行清除的同时还改善了设备内环境,解决了现有污水处理设备不具备自清洁能力,导致设备内环境持续恶化的问题。