申请日 20200810
公开（公告）日 20201124
IPC分类号 C02F1/461; C23F1/46; C25C1/12
摘要
本发明提供一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，属于含铜蚀刻废水处理技术领域，特别涉及一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺。工艺的流程包括以下步骤：电解离子膜处理、纯水回收、纯水再利用、浓液收集、电解提铜、浓氨液回用。本发明的有益效果在于，与现有技术相比，本发明具有如下优点和效果：首先，本工艺可实现接近零成本的处理费用，具有非常可观经济效益，实现高水平的循环经济；其次，本工艺不添加任何化工原料，不产生任何新的化学物质，实现废水、废渣的零排放，对环境无污染，具有很好的社会效益；再次，本工艺可以实现废水及蚀刻液的回收利用，且可以电解回收蚀刻液里的铜离子；最后，本工艺流程简单、便于推广和使用。
权利要求书
1.一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，该工艺的流程包括以下步骤：
步骤一：电解离子膜处理：将含有铜离子的印刷电路板蚀刻清洗废水用水泵导入到电解离子膜设备，进行浓缩分离，得到纯水和浓缩后的含铜离子的蚀刻液。
步骤二：纯水回收：将经过电解离子膜设备分离得到的水，导入到纯水回收池；
步骤三：纯水再利用：将纯水回收池里面的纯水用水泵引入车间生产线循环利用；
步骤四：浓液收集：将步骤一分离所得的蚀刻液收集到浓液收集池。
步骤五：电解提铜：将浓液收集池中的蚀刻液进行电解，提取浓液中的铜离子，得到可用的蚀刻液。
步骤六：蚀刻液回用：将步骤五中制得的蚀刻液回用到生产蚀刻槽重复使用。
2.如权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于，所述步骤一中的清洗废水为酸性蚀刻清洗废水，废水中包括的成分有氯化铵、盐酸、氯酸钠、氯化钠、尿素。
3.如权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于，所述步骤一中的清洗废水为碱性蚀刻清洗废水，废水中包括的成分有氯化铵、氨水。
4.如权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于，所述步骤一中的电解离子膜设备设置有直流电场。
5.如权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于，所述步骤一中的电解离子膜设备设置有离子膜，废水中的离子在直流电场的作用下通过离子膜，只有水分子留下来。从而达到浓缩蚀刻液的目的。
6.如权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于，所述步骤二中的纯水电导率低于10us/cm。
7.如权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于，所述步骤四中的蚀刻液可以卖给有有资质的回收单位进行回收处理，实现经济效益。
8.如权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于，所述步骤五中蚀刻液进行电解提铜，可在电解池阴极通过还原反应制取单质铜，制取的单质铜可进行回收使用。
9.如权利要求1所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于，所述步骤五中设置有射流器，电解产生的可溶性气体可通过射流器溶入蚀刻液，实现原样的蚀刻液回收。
10.如权利要求9所述的一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，其特征在于，所述步骤五中还设置有循环泵，利用循环泵将蚀刻液导入到射流器中。
说明书
一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺
技术领域
本发明属于含铜蚀刻废水处理技术领域，特别涉及一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺。
背景技术
印刷电路板制作蚀刻中的蚀刻工艺，分为碱性蚀刻和酸性蚀刻，碱性蚀刻液中含有氨水，在蚀刻后的清洗水中氨的含量很高，且由于氨和铜的络合作用，在处理铜氨废水时存在去除难度大、处理成本高、达标难度大等问题。
现有技术公开了一种专利号为CN201911069649.8的一种用于蚀刻清洗废水的废水处理工艺，一种用于蚀刻清洗废水的废水处理工艺，包括如下步骤：絮凝沉淀、蒸发除盐、污泥处理。所述絮凝沉淀包括将蚀刻清洗废水在废水收集池内收集后，通过废水提升泵输送至反应槽，在所述反应槽内先投加碱，调节pH值至中性，然后投加混凝剂，最后投加絮凝剂；所述反应槽内的沉淀物在沉淀池内通过重力作用沉入下方的污泥斗，所述反应槽内的废水通过上部溢流堰流至清水槽。本发明所述的用于蚀刻清洗废水的废水处理工艺，工艺简单，操作方便，实现了污水零排放，并且处理工程中不会产生有毒有害副产物,无污染,具有极高的经济效益及环境效益，处理后的蚀刻清洗废水，水质清澈，无明显悬浮物，电导率≤700us/cm，前景广泛。该工艺虽然具有操作简单，生产过程无污染的优点，但仍然存在处理成本高且废水不能完全回收利用的缺点。
发明内容
为了解决上述问题，本发明的首要目的在于提供一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，该工艺可以实现接近零成本的处理费用，具有非常可观经济效益，实现高水平的循环经济；
本发明的另一个目的在于提供一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，该工艺不添加任何化工原料，不产生任何新的化学物质，实现废水、废渣的零排放，对环境无污染，具有很好的社会效益；
本发明的又一个目的在于提供一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，该工艺可以实现废水及蚀刻液的回收利用，且可以电解回收蚀刻液里的铜离子；
本发明的最后一个目的在于提供一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，该工艺流程简单，便于推广使用。
为了实现上述目的，本发明的技术方案如下。
本发明提供一种印刷电路板含铜蚀刻清洗废水处理工艺，该工艺的流程包括以下步骤：
步骤一：电解离子膜处理：将含有铜离子的印刷电路板蚀刻清洗废水用水泵导入到电解离子膜设备，进行浓缩分离，得到纯水和浓缩后的含铜离子的蚀刻液，电解离子膜产纯水后可增加阴阳树脂混床、EDI等工艺进一步提高纯水的品质。
步骤二：纯水回收：将经过电解离子膜设备分离得到的水，导入到纯水回收池；
步骤三：纯水再利用：将纯水回收池里面的纯水用水泵引入车间生产线循环利用；
步骤四：浓液收集：将步骤一分离所得的蚀刻液收集到浓液收集池。
步骤五：电解提铜：将浓液收集池中的蚀刻液进行电解，提取浓液中的铜离子，得到可用的蚀刻液。
步骤六：蚀刻液回用：将步骤五中制得的蚀刻液回用到生产蚀刻槽重复使用。
进一步的，所述步骤一中的清洗废水为酸性蚀刻清洗废水，废水中包括的成分有氯化铵、盐酸、氯酸钠、氯化钠、尿素等。
进一步的，所述步骤一中的清洗废水为碱性蚀刻清洗废水，废水中包括的成分有氯化铵、氨水等。
进一步的，所述步骤一中的电解离子膜设备设置有直流电场。
进一步的，所述步骤一中的电解离子膜设备设置有离子膜，废水中的离子在直流电场的作用下通过离子膜，只有水分子留下来。从而达到浓缩蚀刻液的目的。
进一步的，所述步骤二中的纯水电导率低于10us/cm。
进一步的，所述步骤四中的蚀刻液可以卖给有有资质的回收单位进行回收处理，实现经济效益。
进一步的，所述步骤五中蚀刻液进行电解提铜，可在电解池阴极通过还原反应制取单质铜，制取的单质铜可进行回收使用。
进一步的，所述步骤五中设置有射流器，电解产生的可溶性气体可通过射流器溶入蚀刻液，实现原样的蚀刻液回收。
进一步的，所述步骤五中还设置有循环泵，所述循环泵可将蚀刻液导入到射流器中。
进一步的，所述步骤六中的蚀刻液除了回用到蚀刻槽，还可交于有回收资质的单位回收处理。
进一步的，本工艺不添加化学原料，不产生新的化学物质、实现废水回用零排放、实现废水中蚀刻液高倍数浓缩100倍左右卖给有资质的单位回收利用，也可通过电解设备将铜电解析出，电解产生的可溶性气体，比如氯气等，通过射流器溶入蚀刻液，实现原样的蚀刻液回用。
进一步的，本工艺处理成本低，分理出来的回用水和蚀刻液都有回用价值，可以实现接近零成本的处理费用。
进一步的，本工艺主要用于处理酸性蚀刻清洗废水，也可用于碱性蚀刻清洗废水的处理。
进一步的，本工艺还可用于化学镀铜废水的处理。
本发明的有益效果在于，与现有技术相比，本发明具有如下优点和效果：首先，本工艺可实现零成本的处理费用，具有非常可观经济效益，实现高水平的循环经济；其次，本工艺不添加任何化工原料，不产生任何新的化学物质，实现废水、废渣的零排放，对环境无污染，具有很好的社会效益；再次，本工艺可以实现废水及蚀刻液的回收利用，且可以电解回收蚀刻液里的铜离子；最后，本工艺流程简单、便于推广和使用。
发明人 （何学文）
