申请日2015.08.28
公开(公告)日2016.03.09
IPC分类号C02F9/04; C02F101/10
摘要
从排放废水中去除微粒硅的方法。根据各种实施例的一种从排放废水中去除微粒硅的方法可以包括：向排放废水添加碱，添加的碱的量相对于所述排放废水中所包含的全部量的硅到原硅酸或原硅酸盐离子的基本氧化反应是亚化学计量的;将排放废水和碱的所得混合物维持在预定温度范围中达一个时间段，从而形成包括硅的沉积;以及使沉积与排放废水彼此分离。
权利要求书
1.一种从排放废水中去除微粒硅的方法，所述方法包括：
向排放废水添加碱，所添加的碱的量相对于排放废水中所包含的全部量的硅到原硅酸的基本氧化反应是亚化学计量的;
将排放废水和碱的所得混合物维持在预定温度范围中达一个时间段，从而形成包括硅的沉积;以及
使沉积与排放废水彼此分离。
2.权利要求1所述的方法，其中，碱包括氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钙、氢氧化钡以及氨中的一个或多个。
3.权利要求1所述的方法，其中，以碱性溶液的形式添加所述碱。
4.权利要求3所述的方法，其中，所述碱性溶液选自由以下项目组成的组：氢氧化钠溶液、氢氧化钾溶液、氢氧化钙溶液、氢氧化钡溶液、氨溶液及其组合。
5.权利要求1所述的方法，其中，以这样的量将碱添加到排放废水：在排放废水中通过碱所提供的水氢氧离子与排放废水中所包含的硅的摩尔比率等于或小于1:1。
6.权利要求1所述的方法，其中，以这样的量将碱添加到排放废水：在污水中通过碱所提供的水氢氧离子与排放废水中所包含的硅的摩尔比率大于或等于0.01:1。
7.权利要求1所述的方法，其中，预定温度范围等于或高于40℃。
8.权利要求1所述的方法，其中，预定温度范围小于碱的沸腾温度。
9.权利要求1所述的方法，其中，预定温度范围等于或小于90℃。
10.权利要求1所述的方法，其中，时间段大于或等于2分钟。
11.权利要求1所述的方法，其中，时间段小于或等于14分钟。
12.权利要求1所述的方法，所述方法还包括：
将从由以下项目组成的组中选择的成分添加到排放废水：磷酸氢二铵、磷酸一铵、硫酸铵、硫酸氢铵及其组合。
13.权利要求12所述的方法，其中，以等于或小于20mol%的量添加所述成分。
14.权利要求12所述的方法，其中，以等于或多于5mol%的量添加所述成分。
15.权利要求1所述的方法，其中，所述排放废水源自一个或多个芯片的生产和/或来自一个或多个晶片的处理。
16.权利要求1所述的方法，其中，排放废水包含质量浓度等于或小于每升250mg的硅粒子，或者其中，排放废水中所包含的硅粒子的大小在亚微米范围中。
17.权利要求1所述的方法，其中，在不存在共沉淀反应或沉淀反应的情况下形成所述沉积，或者其中，在不添加金属盐的情况下将微粒硅从排放废水中去除。
18.权利要求1所述的方法，其中，排放废水包含掺杂剂，并且其中，所述掺杂剂经由沉积与硅一起从排放废水中至少部分地去除。
19.一种从排放废水中去除微粒硅的方法，所述方法包括：
以这样的量将碱添加到排放废水：在排放废水中通过碱所提供的水氢氧离子与排放废水中所包含的硅的摩尔比率小于或等于2:1;
将碱和排放废水的所得混合物维持在预定温度范围中达一个时间段，从而允许形成包括硅的沉积;以及
将沉积与排放废水彼此分离。
20.一种从排放废水中去除微粒硅的方法，所述方法包括：
为排放废水中所包含的每克硅提供排放废水中的0.02至0.1mol的溶解的氢氧化钠，或者
为排放废水中所包含的每克硅提供排放废水中的0.02至0.1mol的溶解的氢氧化钾，或者
为排放废水中所包含的每克硅提供排放废水中的0.01至0.05mol的溶解的氢氧化钙，或者
为排放废水中所包含的每克硅提供排放废水中的0.02至0.1mol的溶解的氢氧化钡，或者
为排放废水中所包含的每克硅提供排放废水中的0.02至0.1mol的铵，或者
为排放废水中所包含的每克硅提供排放废水中的0.02至0.1mol的溶解的氢氧化钠，其中，溶解的氢氧化钠部分地或全部地被以下中的一个或多个取代：1:1摩尔取代率的溶解的氢氧化钾，1:2摩尔取代率的溶解的氢氧化钙，1:2摩尔取代率的溶解的氢氧化钡，以及1:1摩尔取代率的铵;
将溶解的氢氧化钠、溶解的氢氧化钾，溶解的氢氧化钙、溶解的氢氧化钡以及铵中的一个或多个与排放废水的所得混合物维持在预定温度范围中达一个时间段，以便允许形成包括硅的沉积;以及
将沉积与排放废水彼此分离。
说明书
从排放废水中去除微粒硅的方法
技术领域
各种实施例涉及从排放废水中去除微粒硅的方法。
背景技术
排放废水可能由工业过程产生。此类排放废水可能包含固体含量。例如，固体含量可以包括或形成粒子。例如，固体含量可以包括硅。例如，排放废水及其固体含量可能由生产一个或多个半导体芯片和/或处理一个或多个半导体晶片而产生。例如，处理半导体晶片(诸如通过研磨、抛光以及打薄晶片中的一个或多个)可能导致排放废水包含在排放废水中悬浮或分布的小的粒子形式的硅。例如，排放废水及其固体含量可以额外地包含掺杂剂，例如砷。
发明内容
根据各种实施例，一种从排放废水中去除微粒硅的方法可以包括：向排放废水添加碱(base)，相对于排放废水中所包含的全部量的硅到原硅酸(Si(OH)4)的基本氧化反应，所添加的碱的量是亚化学计量的(sub-stoichiometric);将排放废水和碱的所得混合物维持在预定温度范围中达一个时间段，从而形成包括硅的沉积;以及使沉积与排放废水彼此分离。
根据各种实施例，一种从排放废水中去除微粒硅的方法可以包括：以这样的量将碱添加到排放废水：在排放废水中通过碱所提供的水氢氧离子与排放废水中所包含的硅的摩尔比率小于或等于2:1，例如，小于或等于1:1;将碱和排放废水的所得混合物维持在预定温度范围中达一个时间段，从而允许形成包括硅的沉积;以及将沉积与排放废水彼此分离。
根据各种实施例，一种从排放废水中去除微粒硅的方法可以包括：为排放废水中所包含的每克硅提供排放废水中的0.02至0.1mol的溶解的氢氧化钠，或者为排放废水中所包含的每克硅提供排放废水中的0.02至0.1mol的溶解的氢氧化钾，或者为排放废水中所包含的每克硅提供排放废水中的0.01至0.05mol的溶解的氢氧化钙，或者为排放废水中所包含的每克硅提供排放废水中的0.02至0.1mol的溶解的氢氧化钡，或者为排放废水中所包含的每克硅提供排放废水中的0.02至0.1mol的铵，或者为排放废水中所包含的每克硅提供排放废水中的0.02至0.1mol的溶解的氢氧化钠，其中，溶解的氢氧化钠部分地或全部地用以下中的一个或多个取代：1:1摩尔取代率的溶解的氢氧化钾，1:2摩尔取代率的溶解的氢氧化钙(也就是说，可以用一部分的氢氧化钙取代两部分的氢氧化钠)，1:2摩尔取代率的溶解的氢氧化钡，以及1:1摩尔取代率的铵;将溶解的氢氧化钠、溶解的氢氧化钾，溶解的氢氧化钙、溶解的氢氧化钡以及铵中的一个或多个与排放废水的所得混合物维持在预定温度范围中达一个时间段，以便允许形成包括硅的沉积;以及将沉积与排放废水彼此分离。
